気体溶解装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：瀧野秀雄 , 越智浩史 , 松村貞男 , 垣内勇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-136930
公開番号（公開出願番号）：特開2006-314857
出願日： 2005年05月10日
公開日（公表日）： 2006年11月24日
要約：

【課題】必要以上に被処理水の流速を増加させる必要がなく、少ないエネルギーで、大流量の被処理水に、高効率で気体を溶解させることができる気体溶解装置を提供すること。【解決手段】気体を被処理液中に溶解させるための気体溶解装置であって、溶解させる気体を充満させる密閉容器と、被処理液が密閉容器(1)の中心部から噴出するように配置された液体供給部(2)と、該液体供給部の噴出口(2b)に近接させて配置され、該噴出口から噴流する被処理液との接触面(5a’,5b’,5c’)が全周方向に広がる凹曲面となっていて被処理液を薄膜状(9)にして連続的に全周方向へ噴流させるようにしたノズル体(5)と、前記密閉容器内の気体溶解済み処理液を排出する排出口(3)とを備えている。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

気体を被処理液中に溶解させるための気体溶解装置であって、溶解させる気体を充満させる密閉容器と、該密閉容器の中心部から被処理液が噴出するように配置された液体供給部と、該液体供給部の噴出口に近接させて配置され、該噴出口から噴流する被処理液との接触面が全周方向に広がる凹曲面となっていて被処理液を薄膜状にして連続的に全周方向へ噴流させるようにしたノズル体と、前記密閉容器内の気体溶解済み処理液を排出する排出口とを備えていることを特徴とする気体溶解装置。

IPC (4件)：

B01F 1/00 , B01F 5/20 , C02F 1/50 , C02F 1/78

FI (6件)：

B01F1/00 A , B01F5/20 , C02F1/50 531R , C02F1/50 540B , C02F1/50 550D , C02F1/78

Fターム (8件)：

4D050AA01 , 4D050AA12 , 4D050AB06 , 4D050BB02 , 4D050BD04 , 4G035AA01 , 4G035AE02 , 4G035AE13

引用特許：

出願人引用 (1件)

光ディスク装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-153692 出願人：日本電気株式会社

審査官引用 (7件)

気体溶解装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-158411 出願人：横河電機株式会社, 松江土建株式会社
曝気装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-288229 出願人：岡田産業株式会社
特公平7-010397

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