特許
J-GLOBAL ID:200903099481204196
標本の表面構造の検査および/または変更の方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
岡田 全啓
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-581672
公開番号(公開出願番号):特表2002-529902
出願日: 1999年10月25日
公開日(公表日): 2002年09月10日
要約:
【要約】標本(14)の表面構造上に衝突するビーム(11)の手段で標本(14)の表面構造を検査する方法または標本(14)の表面構造を変更する方法において、ガスは不連続に、好ましくはパルス状のモードで、標本(14)の表面構造上の少なくともビーム(11)の衝突領域(13)に供給される。
請求項(抜粋):
ガスが標本の表面構造上の少なくともビームの衝突領域に供給される場合の、標本の表面構造に衝突するビームの手段で標本の表面構造を検査及び/または変更する方法であって、 ガスは不連続に供給されることを特徴とする方法。
IPC (4件):
H01J 37/20
, G01N 1/28
, G01N 23/225
, H01J 37/28
FI (5件):
H01J 37/20 F
, H01J 37/20 H
, G01N 23/225
, H01J 37/28 B
, G01N 1/28 F
Fターム (26件):
2G001AA01
, 2G001AA03
, 2G001AA05
, 2G001AA07
, 2G001GA03
, 2G001GA06
, 2G001KA20
, 2G001LA01
, 2G001LA06
, 2G001PA07
, 2G001RA02
, 2G001RA04
, 2G001RA08
, 2G001RA20
, 2G052AA28
, 2G052EC16
, 2G052EC17
, 2G052EC18
, 2G052FD06
, 2G052GA35
, 5C001BB03
, 5C001CC08
, 5C033FF10
, 5C033JJ07
, 5C033MM07
, 5C033UU03
引用特許:
出願人引用 (5件)
全件表示
審査官引用 (6件)
-
特開平3-059939
-
特開平3-059939
-
パターン生成方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-100393
出願人:セイコー電子工業株式会社
全件表示
前のページに戻る