特許
J-GLOBAL ID:200903099502546998
積層体およびその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
山下 昭彦 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-086828
公開番号(公開出願番号):特開2003-276110
出願日: 2002年03月26日
公開日(公表日): 2003年09月30日
要約:
【要約】【課題】 本発明は、酸化珪素膜の表面に存在する、分子のナノレベルでの欠損の充填と、フィルムの表面全体の水等による吸着性を低下させることとにより、バリア性を向上させた積層体を提供することを主目的とする。【解決手段】 本発明は、基材と、上記基材の片面または両面に形成された酸化珪素膜と、上記酸化珪素膜上に形成された自己組織化単分子膜とを有することを特徴とする積層体を提供することにより上記目的を達成するものである。
請求項(抜粋):
基材と、前記基材の片面または両面に形成された酸化珪素膜と、前記酸化珪素膜上に形成された自己組織化単分子膜とを有することを特徴とする積層体。
IPC (3件):
B32B 9/00
, C23C 14/10
, C23C 16/50
FI (4件):
B32B 9/00 A
, B32B 9/00 Z
, C23C 14/10
, C23C 16/50
Fターム (36件):
4F100AA20B
, 4F100AA20C
, 4F100AH06D
, 4F100AH06E
, 4F100AK42
, 4F100AT00A
, 4F100BA05
, 4F100EG002
, 4F100EH662
, 4F100GB15
, 4F100JA20
, 4F100JB20D
, 4F100JB20E
, 4F100JD02
, 4F100JD03
, 4F100JD04
, 4F100JM03D
, 4F100JM03E
, 4K029AA11
, 4K029AA25
, 4K029BB04
, 4K029BC00
, 4K029BD00
, 4K029EA01
, 4K029GA03
, 4K030AA02
, 4K030AA06
, 4K030AA09
, 4K030BA35
, 4K030BA44
, 4K030BB00
, 4K030FA01
, 4K030FA10
, 4K030HA04
, 4K030JA01
, 4K030LA01
引用特許:
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