特許
J-GLOBAL ID:200903099537414210

オフセット印刷用ブランケット

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 稲岡 耕作 ,  川崎 実夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-335877
公開番号(公開出願番号):特開2005-103754
出願日: 2003年09月26日
公開日(公表日): 2005年04月21日
要約:
【課題】PDP電極などの高精度パターンを連続印刷するに適した凹版オフセット印刷用ブランケットを提供する。 【解決手段】合成樹脂または金属のフィルムよりなる支持体層上にシリコーンゴムの表面印刷層を積層してなるオフセット印刷用ブランケットであって、前記表面印刷層と支持層との界面に熱線反射性の金属薄膜(金、クロム、アルミニウム、ニッケル、銅または銀など)を備え、さらに好ましくは前記表面ゴム層に熱線吸収能を有する無機金属微粒子を含有せしめてなるオフセット印刷用ブランケット。前記無機金属性微粒子は、一次粒子径が0.5μm以下の酸化錫、アンチモンドープ酸化錫、インジウムドープ酸化錫あるいは五酸化アンチモンなどを包含する。【選択図】なし
請求項(抜粋):
支持体層上にシリコーンゴムよりなる表面印刷層を積層してなるオフセット印刷用ブランケットであって、前記表面印刷層と支持層との界面に熱線反射性の金属薄膜を備えてなるオフセット印刷用ブランケット。
IPC (1件):
B41N10/02
FI (1件):
B41N10/02
Fターム (15件):
2H114CA02 ,  2H114CA06 ,  2H114DA04 ,  2H114DA08 ,  2H114DA11 ,  2H114DA52 ,  2H114DA56 ,  2H114DA57 ,  2H114DA60 ,  2H114DA61 ,  2H114DA62 ,  2H114DA75 ,  2H114FA02 ,  2H114FA07 ,  2H114FA10
引用特許:
出願人引用 (2件) 審査官引用 (5件)
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