特許
J-GLOBAL ID：200903099628424227

液浸リソグラフィーのための組成物および方法

発明者：
ダヤン・ワン

ダヤン・ワン について

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チェン-バイ・スー

チェン-バイ・スー について

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ジョージ・ジー・バークレー

ジョージ・ジー・バークレー について


出願人/特許権者：
ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー.

ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー. について


代理人 (1件)： 特許業務法人センダ国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-284298
公開番号（公開出願番号）：特開2009-199058
出願日： 2008年11月05日
公開日（公表日）： 2009年09月03日
要約：
【課題】液浸フォトリソグラフィーに用いる新規な組成物を提供する。【解決手段】本発明のフォトレジスト組成物は、好ましくはレジストの樹脂成分に対して実質的に非混和性となることができる2種類以上の別個の物質を含む。特に好ましい本発明のフォトレジストは、液浸リソグラフィー処理中にレジスト層に接触する液浸液中へのレジスト物質の滲出を軽減することができる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
(a)(i)1種類以上の樹脂と、 (ii)光活性成分と、 (iii)前記1種類以上の樹脂に対して実質的に非混和性の2種類以上の物質とを含むフォトレジスト組成物を基体上に適用すること;および (b)前記フォトレジスト層を、前記フォトレジスト組成物用の活性化放射線に液浸露光することとを含む、フォトレジスト組成物の処理方法。
IPC (5件)：
G03F 7/004 ,  G03F 7/38 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027 ,  G03F 7/20
FI (7件)：
G03F7/004 501 ,  G03F7/38 501 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R ,  H01L21/30 515D ,  H01L21/30 573 ,  G03F7/20 521
Fターム (32件)：
2H025AA02 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BF02 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CC04 ,  2H025CC20 ,  2H025FA01 ,  2H025FA10 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  2H096AA25 ,  2H096BA11 ,  2H096DA04 ,  2H096EA03 ,  2H096EA05 ,  2H096EA06 ,  2H096EA07 ,  2H096EA23 ,  2H096FA01 ,  2H096GA08 ,  2H096JA02 ,  5F046CB01 ,  5F046DA07 ,  5F046JA27 ,  5F046NA01 ,  5F046NA06
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • 米国特許出願公開第2006/0246373号明細書
審査官引用 (4件)
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