特許
J-GLOBAL ID：200903057291413517

液浸露光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法

発明者：
水谷 一良

水谷 一良 について

, 
神田 博美

神田 博美 について

, 
稲部 陽樹

稲部 陽樹 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  矢澤 清純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-276529
公開番号（公開出願番号）：特開2007-086528
出願日： 2005年09月22日
公開日（公表日）： 2007年04月05日
要約：
【課題】 液浸露光時に於ける、欠陥、スカム、及び溶出割合が改善された液浸露光に好適なポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】 (A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び、(B)少なくとも1つの脂環構造を有する繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂、(C)シロキサン結合を主鎖とするアルカリ可溶性樹脂を含有することを特徴とする液浸露光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び、 (B)少なくとも1つの脂環構造を有する繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂、 (C)シロキサン結合を主鎖とするアルカリ可溶性樹脂 を含有することを特徴とする液浸露光用ポジ型レジスト組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/039 ,  H01L 21/027 ,  G03F 7/075
FI (4件)：
G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R ,  H01L21/30 515D ,  G03F7/075 521
Fターム (11件)：
2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025CB33 ,  2H025CB52 ,  2H025FA12 ,  5F046CB01 ,  5F046CB25
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (11件)
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