特許
J-GLOBAL ID：200903066775096205

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法

発明者：
漢那 慎一

漢那 慎一 について

, 
神田 博美

神田 博美 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  矢澤 清純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-247408
公開番号（公開出願番号）：特開2007-065024
出願日： 2005年08月29日
公開日（公表日）： 2007年03月15日
要約：
【課題】IC等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにはその他のフォトアプリケーションのリソグラフィー工程に使用されるポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法であって、PEB温度依存性が改良され、且つ液浸露光によるパターン形成において、ラインエッジラフネスが改良されたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】(A)酸で分解し得る基を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(C)ガラス転移温度(Tg)が110°C以上であり、酸で分解し得る基を有さず、且つフッ素原子又はシリコン原子を有するアルカリ可溶性樹脂及び(D)溶剤を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(A)酸で分解し得る基を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、 (B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、 (C)ガラス転移温度(Tg)が110°C以上であり、酸で分解し得る基を有さず、且つフッ素原子又はシリコン原子を有するアルカリ可溶性樹脂及び (D)溶剤 を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/039 ,  G03F 7/075 ,  H01L 21/027
FI (3件)：
G03F7/039 601 ,  G03F7/075 521 ,  H01L21/30 502R
Fターム (11件)：
2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025CB33 ,  2H025CB41 ,  2H025CB52 ,  2H025FA12
引用特許：
出願人引用 (8件)
全件表示
審査官引用 (5件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM