特許

J-GLOBAL ID：200903099713236278

マスクブランクス用ガラス基板の製造方法、マスクブランクス用ガラス基板、マスクブランクスの製造方法、及びマスクブランクス

発明者： 笠原 比佐志 ,  大柴 広巳 ,  栗川 明典
出願人/特許権者： HOYA株式会社
代理人 (1件)： 藤村 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-216869
公開番号（公開出願番号）：特開2007-033857
出願日： 2005年07月27日
公開日（公表日）： 2007年02月08日
要約：

【課題】図9に示すような「レーザ光照射による凹部の形成によって該凹部の表面に発生する表面荒れ」に伴う諸問題を解消する。【解決手段】マスクブランクス用ガラス基板表面における転写に影響のない領域の基板表面にレーザ光を照射させて、融解又は昇華させることにより、前記マスクブランクス用ガラス基板を識別するためのマーカとして用いられる凹部を形成するマーキング工程を備えるマスクブランク用ガラス基板の製造方法であって、 レーザ光照射によってマーキングを行おうとする箇所及びその周辺の基板表面を、「レーザ光照射による凹部の形成によって該凹部の表面に発生する表面荒れ」(図9参照)を生じさせる原因物質を排除した表面状態とし、かつこの状態でレーザ光照射によるマーキングを実施する工程を備えることを特徴とする。【選択図】図9

請求項（抜粋）：

マスクブランクス用ガラス基板表面における転写に影響のない領域の基板表面にレーザ光を照射させて、融解又は昇華させることにより、前記マスクブランクス用ガラス基板を識別するためのマーカとして用いられる凹部を形成するマーキング工程を備えるマスクブランク用ガラス基板の製造方法であって、 レーザ光照射によってマーキングを行おうとする箇所及びその周辺の基板表面を、レーザ光照射による凹部の形成によって該凹部の表面に発生する表面荒れを生じさせる原因物質を排除した表面状態とし、かつこの状態でレーザ光照射によるマーキングを実施する工程を備えることを特徴とするマスクブランク用ガラス基板の製造方法。

IPC (3件)：

G03F 1/14 ,  B23K 26/00 ,  C03C 23/00

FI (3件)：

G03F1/14 A ,  B23K26/00 B ,  C03C23/00 D

Fターム (8件)：

2H095BC26 ,  2H095BE04 ,  4E068AB01 ,  4E068DB13 ,  4G059AA11 ,  4G059AB01 ,  4G059AB05 ,  4G059AC01

引用特許：

出願人引用 (3件)

• エリアコード付きフォトマスク用ブランクスとエリアコード付きフォトマスク、およびフォトマスクの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-311218   出願人：大日本印刷株式会社
• 特開昭59-15938号公報
  
• 特願2005-096976号
  

審査官引用 (5件)

• 特開昭59-015938
  
• ハードレーザマーキングウェーハおよびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-092643   出願人：三菱マテリアルシリコン株式会社
• レーザマーキング方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-289794   出願人：住友重機械工業株式会社
• レーザマーク付き半導体ウエーハ製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-030586   出願人：住友金属工業株式会社
• 情報記録媒体用ガラス基板及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-356468   出願人：日本板硝子株式会社