特許
J-GLOBAL ID：200903025223081469
エリアコード付きフォトマスク用ブランクスとエリアコード付きフォトマスク、およびフォトマスクの製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
金山 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-311218
公開番号（公開出願番号）：特開2002-116533
出願日： 2000年10月11日
公開日（公表日）： 2002年04月19日
要約：
【要約】【課題】 フォトマスク作製において、使用するブランクス、レジストを配設したブランクス(レジスト塗布ブランクス)から、作製されるフォトマスクまで一貫して、あるいは部分的に、これら基板を処理と関連つけて適切に管理できる管理方法を提供する。【解決手段】 IC,LSI等の半導体回路形成用のフォトマスクを作製するための、レジストを配設した、あるいは配設してないフォトマスク用ブランクスであって、光学式読み取りタイプのエリアコード(二次元IDコード)がガラス基板の端面ないし裏面に設けられている。そして、エリアコードは、フォトマスク用ブランクスのガラス基板の端面ないし裏面に形成された金属膜に、レーザーマーカーによって加工形成されたものである。
請求項（抜粋）：
IC,LSI等の半導体回路形成用のフォトマスクを作製するための、レジストを配設した、あるいはレジストを配設してないフォトマスク用ブランクスであって、光学式読み取りタイプのエリアコード(二次元IDコード)が設けられていることを特徴とするエリアコード付きフォトマスク用ブランクス。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F 1/08 M
, H01L 21/30 502 P
2H095BA01
, 2H095BE04
, 2H095BE07
, 2H095BE08
, 2H095BE09
, 2H095BE10
