特許

J-GLOBAL ID：200903099825842308

真空浸炭方法

発明者： 高橋 仁一郎 ,  根橋 清 ,  石毛 健吾
出願人/特許権者： 石川島播磨重工業株式会社
代理人 (1件)： 堀田 実
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-172827
公開番号（公開出願番号）：特開2005-350729
出願日： 2004年06月10日
公開日（公表日）： 2005年12月22日
要約：

【課題】 浸炭ガス供給量を必要量に対して適正化して、浸炭ガスの無駄を減らし、処理コストを下げることができ、炉内のスーティングを防止して被処理材の光沢を保持でき、かつセメンタイトの発生・残存を低減して被処理材の品質を高めることができる真空浸炭方法を提供する。【解決手段】 浸炭処理に必要な浸炭ガスの理論流量Vと浸炭時間tとの関係V=f(t)を、浸炭深さと表面炭素濃度より、材料の内部拡散に基づいて算出し、浸炭工程の浸炭前期において、前記理論流量Vよりも十分多くかつスーティングの発生しない浸炭時流量V1を供給し、浸炭前期に引続く浸炭後期において、前記理論流量Vよりも少ない拡散時流量V2を供給する。【選択図】 図3

請求項（抜粋）：

浸炭処理に必要な浸炭ガスの理論流量Vと浸炭時間tとの関係V=f(t)を、浸炭深さと表面炭素濃度より、材料の内部拡散に基づいて算出し、 浸炭工程の浸炭前期において、前記理論流量Vよりも十分多くかつスーティングの発生しない浸炭時流量V1を供給し、 浸炭前期に引続く浸炭後期において、前記理論流量Vよりも少ない拡散時流量V2を供給する、ことを特徴とする真空浸炭方法。

IPC (2件)：

C23C8/22 ,  C21D1/06

FI (2件)：

C23C8/22 ,  C21D1/06 A

Fターム (2件)：

4K028AA01 ,  4K028AC03

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 真空浸炭方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-260192   出願人：中外炉工業株式会社

審査官引用 (3件)

• 鋼材部品の真空浸炭方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-364847   出願人：中外炉工業株式会社
• 真空浸炭方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-260192   出願人：中外炉工業株式会社
• 浸炭雰囲気の制御方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-272210   出願人：東邦瓦斯株式会社, 東京瓦斯株式会社, 大阪瓦斯株式会社