研究者
J-GLOBAL ID:201001029653340769
更新日: 2024年09月19日
野口 隆
ノグチ タカシ | Takashi Noguchi
所属機関・部署:
琉球大学 工学部 電気電子工学科
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職名:
教授
研究分野 (2件):
薄膜、表面界面物性
, 電子デバイス、電子機器
研究キーワード (2件):
薄膜半導体素子
, Semiconductor Thin Film Device
MISC (150件):
Tatsuya Okada, Jean de Dieu Mugiraneza, Katsuya Shirai, Toshiharu Suzuki, Takashi Noguchi, Hideki Matsushima, Takao Hashimoto, Yoshiaki Ogino, Eiji Sahota. Crystallization of Si Thin Film on Flexible Plastic Substrate by Blue Multi-Laser Diode Annealing. JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. 2012. 51. 3
Tatsuya Okada, Jean de Dieu Mugiraneza, Katsuya Shirai, Toshiharu Suzuki, Takashi Noguchi, Hideki Matsushima, Takao Hashimoto, Yoshiaki Ogino, Eiji Sahota. Crystallization of Si Thin Film on Flexible Plastic Substrate by Blue Multi-Laser Diode Annealing. JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. 2012. 51. 3
Jean de Dieu Mugiraneza, Katsuya Shirai, Toshiharu Suzuki, Tatsuya Okada, Takashi Noguchi, Hideki Matsushima, Takao Hashimoto, Yoshiaki Ogino, Eiji Sahota. Crystallization of Silicon Films of Submicron Thickness by Blue-Multi-Laser-Diode Annealing. JOURNAL OF THE KOREAN PHYSICAL SOCIETY. 2012. 60. 1. 88-93
Jean de Dieu Mugiraneza, Katsuya Shirai, Toshiharu Suzuki, Tatsuya Okada, Takashi Noguchi, Hideki Matsushima, Takao Hashimoto, Yoshiaki Ogino, Eiji Sahota. Crystallization of Silicon Films of Submicron Thickness by Blue-Multi-Laser-Diode Annealing. JOURNAL OF THE KOREAN PHYSICAL SOCIETY. 2012. 60. 1. 88-93
Katsuya Shirai, Jean de Dieu Mugiraneza, Toshiharu Suzuki, Tatsuya Okada, Takashi Noguchi, Hideki Matsushima, Takao Hashimoto, Yoshiaki Ogino, Eiji Sahota. Crystallization Behavior of Sputtered Amorphous Silicon Films by Blue-Multi-Laser-Diode Annealing. JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. 2011. 50. 2
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書籍 (4件):
低温ポリシリコン薄膜トランジスタの開発 第V編 応用 第2章(低温ポリシリコン薄膜トランジスタの開発)
2007
低温ポリシリコン薄膜トランジスタの開発 第V編 応用 第2章(低温ポリシリコン薄膜トランジスタの開発)
2007
プラスチックLCDの材料技術と低温プロセス (第4章 第8節)
2002
プラスチックLCDの材料技術と低温プロセス (第4章 第8節)
2002
講演・口頭発表等 (206件):
Effect of H2 Annealing after BLDA for Low-Cost Poly Si TFT
(Proc. of IDW '13 2013)
BLDA(青色半導体ダイオードアニール)によるSi薄膜結晶化と応用
(電子情報通信学会技術報告 2013)
冷却ホルダを用いた軟X 線照射によるSi 中B 原子の低温活性化
(第 74 回応用物理学会秋季学術講演会 2013)
2 ステップRTA(高温短時間アニール)によるリンドープSi 薄膜の低抵抗化
(第 74 回応用物理学会秋季学術講演会 2013)
O2 混合Ar スパッタにより成膜したSiO2 膜の電気特性評価
(第 74 回応用物理学会秋季学術講演会 2013)
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学位 (2件):
工学修士 (同志社大学)
工学博士 (同志社大学)
経歴 (2件):
2006/05/01 - - , 琉球大学 工学部 電気電子工学科 電子システム工学講座
2006/05/01 - - , University of the Ryukyus, Faculty of Engineering, Department of Electrical and Electronics Engineering, Electronic Systems Engineering, Professor
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