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J-GLOBAL ID：201002220321181646   整理番号：10A0065976

パルスパワー応用の最新動向

Recent Topics on Pulsed Power Technology

著者 (2件)： 渡辺正人 (東京工業大学創造エネルギー専攻) ,  井深真治 (東京工業大学電気電子工学専攻)
資料名： 電気学会論文誌 A  (IEEJ Transactions on Fundamentals and Materials)
巻： 130  号： 1  ページ： 20-23 (J-STAGE)  発行年： 2010年 
JST資料番号： S0808A  ISSN： 0385-4205  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 本稿では,パルスパワー応用で本年特に発展が期待される,放電生成プラズマ光源とマイクロプラズマに関する最新動向を述べる。 1)放電生成プラズマ光源:放電生成プラズマを用いた短波長光源の開発は,リソグラフィ用光源のほかナノ加工やバイオプロセスなど広い応用分野を持つため,今後もさらに発展が期待できる。現状では,Snを放電媒質とし,電極への高熱負荷対策として電極そのものを回転させながら繰り返し放電を実現するレーザアシスト回転電極DPP電源の開発が鋭意進められ,量産機光源としての発展が期待されている。また,より広範囲への応用が期待できるコヒーレントな短波長光源として,軟Xレーザの開発も積極的に進められている。特に内径数ミリのキャピラリィ管を用いた放電型のレーザ開発は直実に成果を上げている。 2)マイクロプラズマ:微小サイズのマイクロプラズマヘパルスパワー技術を適用することにより,大気圧下で大電力過渡グロー放電の生成が可能である。極短ギャッブ・微小体積なマイクロプラズマは放電開始電圧が低く,低エネルギーで生成可能であることから,比較的簡易な電源と電極構造で安定なプラズマ生成が可能となる。また,低気圧プロセスと比較して2桁以上高速なDLC薄膜堆積も実現可能である。

シソーラス用語： 衝撃電圧 ,  *パルス発生器 ,  プラズマ ,  プラズマ源 ,  *フォトリソグラフィー ,  軟X線 ,  ダイヤモンド状炭素 ,  X線レーザ ,  *応用研究
準シソーラス用語： *EUVリソグラフィー ,  *パルスパワー ,  プラズマ光源 ,  マイクロプラズマ ,  *衝撃電圧発生器 ,  軟X線レーザ ,  放電プラズマ

分類 (2件)： 高電圧技術・設備  (NA03000I) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (24件)：

• (1) 小川眞佐志:「EUVAプロジェクト」, 放電研究, Vol. 52, No. 2, pp. 13-18 (2009)
• (2) 堀田栄喜:「放電生成プラズマ光源」, プラズマ核融合学誌, Vol. 79, No. 3, pp. 245-251 (2003)
• (3) 堀田和明・佐藤弘人:「放電プラズマEUV光源(DPP)」,ライトエッジ, No. 30, pp. 58-67 (2008)
• (4) Y. Teramoto, et al. : “Development of Xe- and Sn-fueled high-power Z-pinch EUV source aiming at HVM”, Proc. SPIE, Vol. 6151, 615147 (2006)
• (5) M. Watanabe, J. Yamada, Q. Zhu, and E. Hotta : “Development of Extreme Ultraviolet Radiation Source Using Laser Triggered Vacuum Spark Discharge Plasma”, AIP Conf. Proc., Vol. 1088, pp. 188-191 (2009)

タイトルに関連する用語 (3件)： パルスパワー ,  応用 ,  最新動向