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J-GLOBAL ID：201002229658599615   整理番号：10A0013116

POSS含有ブロック共重合体の自己集合を利用する一段階直接パターン形成用テンプレート

One-Step Direct-Patterning Template Utilizing Self-Assembly of POSS-Containing Block Copolymers

著者 (10件)： HIRAI Tomoyasu (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN) ,  LEOLUKMAN Melvina (Univ. Wisconsin, Wisconsin, USA) ,  LIU Chi Chun (Univ. Wisconsin, Wisconsin, USA) ,  HAN Eungnak (Univ. Wisconsin, Wisconsin, USA) ,  KIM Yun Jun (Univ. Wisconsin, Wisconsin, USA) ,  ISHIDA Yoshihito (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN) ,  HAYAKAWA Teruaki (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN) ,  KAKIMOTO Masa-aki (Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN) ,  NEALEY Paul F. (Univ. Wisconsin, Wisconsin, USA) ,  GOPALAN Padma (Univ. Wisconsin, Wisconsin, USA)
資料名： Advanced Materials  (Advanced Materials)
巻： 21  号： 43  ページ： 4334-4338  発行年： 2009年11月20日 
JST資料番号： W0001A  ISSN： 0935-9648  CODEN： ADVMEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： サブ50nmリソグラフィー技術の開発においてブロック共重合体リソグラフィーが注目されているが,エッチングに際して高い選択性を有するブロック共重合体が望まれている。新しい無機系モノマーとして多面体オリゴマシルセスキオキサンプロパノールのメタクリル酸エステル(MAPOSS)とスチレンおよびメタクリル酸メチルとのジブロック共重合体PS-b-PMAPOSSおよびPMMA-b-PMAPOSSを設計した。これらのジブロック共重合体の薄膜の溶媒アニールおよび酸素反応性イオンエッチング(RIE)によってPSおよびPMMAを除去し,PMAPOSSの垂直配向ラメラおよび円筒パターンを形成した。

シソーラス用語： *ジブロック共重合体 ,  *パターン形成 ,  *リソグラフィー ,  有機ケイ素化合物 ,  ポリメタクリル酸メチル ,  ポリスチレン ,  鋳型効果 ,  自己集合 ,  RIE【エッチング】
準シソーラス用語： *ナノリソグラフィー ,  反応性イオンエッチング

分類 (3件)： 固-液界面  (CB12050B) ,  高分子固体のその他の性質  (CG02025L) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (6件)： POSS ,  ブロック共重合体 ,  自己集合 ,  段階 ,  パターン形成 ,  テンプレート