MAKINO Toshiharu について
National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN について
KATO Hiromitsu について
National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN について
TOKUDA Norio について
Kanazawa Univ., Ishikawa, JPN について
OGURA Masahiko について
National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN について
TAKEUCHI Daisuke について
National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN について
OYAMA Kazuhiro について
National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN について
OYAMA Kazuhiro について
Univ. Tsukuba, Ibaraki, JPN について
TANIMOTO Satoshi について
Nissan Motor Co. Ltd., Kanagawa, JPN について
OKUSHI Hideyo について
National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN について
YAMASAKI Satoshi について
National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN について
YAMASAKI Satoshi について
Univ. Tsukuba, Ibaraki, JPN について
Physica Status Solidi. A. Applications and Materials Science について
半導体薄膜 について
Schottky障壁 について
PN接合 について
空乏層 について
プラズマCVD について
活性層 について
バンド構造 について
オン抵抗 について
二次イオン質量分析 について
電流電圧特性 について
容量電圧特性 について
ダイオード について
ダイヤモンド について
マイクロ波プラズマ化学蒸着 について
ダイオード について
半導体-金属接触 について
13-15族化合物を含まない半導体-半導体接合 について
半導体薄膜 について
オン抵抗 について
阻止 について
トレードオフ について
ダイヤモンド について
PN について
ダイオード について