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J-GLOBAL ID:201002255043641434   整理番号:10A1074004

トリエチルアミンボランを用いて低圧化学蒸着法LPCVDによって生成したBCxNyの分析的特性化

Analytical characterization of BCxNy films generated by LPCVD with triethylamine borane
著者 (9件):
資料名:
巻: 398  号:ページ: 1077-1084  発行年: 2010年09月 
JST資料番号: E0425B  ISSN: 1618-2642  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: ドイツ (DEU)  言語: 英語 (EN)
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炭窒化ほう素BCxNyの半導体材料,超硬質セラミックス材料が注目されている。本研究では,トリエチルアミンボラン錯体((C2H5)3MBH3(TEAB)とNH3を前駆体として利用して低圧化学蒸着法(LPCVD)によってBCxNyのナノ層を合成した。NH3の有無による影響をそれぞれの生成物のX線光電子分光法(XPS),シンクロトロン放射全反射X線蛍光分析-X線吸収端近傍微細構造分光法(TXRF-NEXAFS)の分析結果から議論した。単一源前駆体としてのTEABとトリメチルアミンボランの比較も行った。
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分類 (2件):
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無機化合物の物理分析  ,  塩 
物質索引 (1件):
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タイトルに関連する用語 (3件):
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