文献

J-GLOBAL ID：201002268623585900   整理番号：10A0877713

コーティング技術の理論と現象 Part3 シランカップリング処理の活用法

著者 (1件)： 河合晃 (長岡技科大 工)
資料名： コンバーテック  (Convertech)
巻： 38  号： 8  ページ： 38-43  発行年： 2010年08月15日 
JST資料番号： Y0873A  ISSN： 0911-2316  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： コーティングの性能に大きく間わるシランカップリング処理法として,半導体LSIプロセス,液晶パネルおよび太陽電池パネル作製に実績を有するヘキサメチルジシラザン(HMDS)に関して解説した。HMDSの化学的特性,SiO₂基板へのシランカップリング処理による濡れ特性変化およびHMDS処理のプロセス最適化を解説した。実用化されているHMDS気化器の方式(バブリングおよび減圧方式)それに装置構成と処理ユニットの比較を概説した。HMDS処理による表面エネルギー成分の変化,拡張係数によって基板とコーティング膜との密着性の変化を解説した。原子間力顕微鏡を用いた微細レジストパターンの付着力の測定法とその結果を示し,HMDS処理により,コーティング膜と基板との密着性は増大するが,過剰処理によって接着力は低下することを明らかにした。コーティング膜の安定性の制御にHMDS処理が有効であることを示した。

シソーラス用語： シランカップリング剤 ,  *表面処理 ,  接触角 ,  表面エネルギー ,  熱処理 ,  温度依存性 ,  時間依存性 ,  気化器 ,  バブリング【化学装置】 ,  極性 ,  疎水性 ,  ウエハ【IC】 ,  レジスト ,  密着性 ,  付着力 ,  顕微鏡観察 ,  剥離試験 ,  LSI【IC】 ,  パネル ,  太陽電池 ,  *カップリング反応
準シソーラス用語： シリコン基板 ,  原子間力顕微鏡法 ,  液晶パネル

分類 (3件)： 界面化学一般  (CB12010J) ,  有機けい素化合物  (CF08030C) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

物質索引 (1件)： ヘキサメチルジシラザン

引用文献 (4件)：

• Akira Kawai, Takato Abe: Direct Measurement of Resist Pattern Adhesion on the Surface with Silane-coupling Treatment by Atomic Force Microscope (AFM), J. Photopolymer Science and Technology, 14, 513-518(2001)
• Akira Kawai, Junko Kawakami: Characterization of SiO2 surface treated by HMDS vapor and O2 plasma with AFM tip, J. Photopolymer Sci. Technol, 16, 665-668(2003)
• Akira Kawai, Daisuke Inoue: Van der Waals interaction between Si substrate and micro tip apex treated with hexamethyldisilazane (HMDS), J. Adhes. Soc. Technol. 39, 255-258(2003)
• Akira Kawai, Junko Kawakami: Wetting analysis of hydrophobic substrate treated by HMDS primer, J. Photopolymer Science and Technology, 20, 815-816(2007)

タイトルに関連する用語 (6件)： コーティング ,  理論 ,  現象 ,  シラン ,  カップリング ,  活用法