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J-GLOBAL ID:201002276282213905   整理番号:10A1539324

Si表面のナノ秒パルスレーザ照射下における自己組織化ナノドット形成のその場観察

In situ observation of self-organizing nanodot formation under nanosecond-pulsed laser irradiation on Si surface
著者 (6件):
資料名:
巻: 108  号: 10  ページ: 103510  発行年: 2010年11月15日 
JST資料番号: C0266A  ISSN: 0021-8979  CODEN: JAPIAU  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
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Si表面のレーザ照射誘起ナノドットアレイ形成のその場観察を,パルスレーザ装備高電圧電子顕微鏡(レーザHVEM)を用いて行った。直径10ナノメートル以下の突出ドット中にそれらをエピタキシャル成長させるために,複数ナノ秒(ns)パルスレーザ照射ショット下で,原子クラスタが最初に形成して,表面に分布した。この後,連続レーザショットによって生じるそれらの拡散が続き,整列したより大きなドットを持つリップル線にそれらを分解,融合する。このサブ波長二次元秩序ナノドットアレイがパルスレーザ照射下で自己組織化によって形成すると結論付けた。(翻訳著者抄録)
シソーラス用語:
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分類 (2件):
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薄膜一般  ,  レーザ照射・損傷 
タイトルに関連する用語 (5件):
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