文献

J-GLOBAL ID：201002284998726752   整理番号：10A1324174

微細加工技術とトライボロジー ガスクラスタイオンビームによるナノ加工技術

著者 (4件)： 松尾二郎 (京大 大学院工学研究科 量子理工学教育研究セ) ,  北川晃幸 (野村鍍金) ,  瀬木利夫 (京大 大学院工学研究科) ,  青木学聡 (京大 大学院工学研究科)
資料名： トライボロジスト  (Journal of Japanese Society of Tribologists)
巻： 55  号： 11  ページ： 776-782  発行年： 2010年11月15日 
JST資料番号： F0390A  ISSN： 0915-1168  CODEN： TORAEO  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 本報ではクラスタイオンビームプロセスの具体的な例を挙げその特徴を紹介し,今後の展望を述べた。主な内容項目を次に示した。1)概要:クラスタイオンビームの開発経緯とMEMSなどへの用途展開,モノマーイオン・クラスタイオン衝突の分子動力学(MD)シミュレーション結果,2)クラスタイオンビームによる表面加工技術:クラスタイオンビームの発生(300mmシリコン基板プロセスに利用されている量産型クラスタイオンビーム装置),超平坦化加工技術(CVD法で成膜したダイヤモンド薄膜を平坦化加工した表面のSEM像),超平坦化加工のメカニズム(10度でクラスタイオンを入射した時にスパッタされた粒子の角度分布),3)有機材料の表面加工とダメージ制御:同じ加工速度をもち異なるサイズ,エネルギーのクラスタを照射したPMMA表面のAFM像,Arクラスタを照射したポリカーボネート(PC)のXPSスペクトル,4)クラスタ援用蒸着法によるDLC薄膜形成:ナノインデンタによる硬度測定から得られる圧痕の様子,クラスタ援用蒸着法で形成したDLC膜を被覆した超硬チップの写真など。5)まとめ:クラスタイオンビームによる表面加工技術の課題と今後の展開。

シソーラス用語： *ナノメータ加工 ,  *イオンビーム ,  クラスタイオン ,  *ウエハ【IC】 ,  表面加工 ,  DLC膜 ,  硬度 ,  スパッタリング ,  エッチング
準シソーラス用語： *クラスターイオンビーム ,  *シリコン基板 ,  *平坦化

分類 (2件)： 特殊加工  (QC04000Y) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

引用文献 (28件)：

• YAMADA, I. Nano-Processing with Gas Cluster Ion Beams. Nucl. Instr. and Meth., B. 2000, 164, 944
• YAMADA, I. Materials Processing by Gas Cluster Ion Beams. Mater. Sci. Eng., R. 2001, 34, 231
• KROTO, H. W. C_<60> : Buckminsterfullerene. Nature. 1985, 318, 162
• SIGMUND, P. Theory of Sputtering I. Sputtering Yield of Amorphous and Polycrystalline Targets. Phys. Rev. 1969, 184, 383
• MATSUO, J. Investigation of Damage Formation by Gas Cluster Ion Bombardment. Nucl. Instr. Meth., B. 1996, 112, 89

タイトルに関連する用語 (4件)： 微細加工技術 ,  トライボロジー ,  ガスクラスタイオンビーム ,  ナノ加工技術