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J-GLOBAL ID：201002291026992866   整理番号：10A0463465

高アスペクト比Moマスクを利用したエピタキシャル酸化物ナノ構造の作製

Fabrication of epitaxial oxide nano-structures with controllability using a high aspect-ratio Mo hollow nanopillar mask

著者 (3件)： CHA Nam-Goo (Osaka Univ.) ,  KANKI Teruo (Osaka Univ.) ,  TANAKA Hidekazu (Osaka Univ.)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts of the Spring Meeting, Japan Society of Applied Physics and the Related Societies)
巻： 57th  ページ： ROMBUNNO.19A-TQ-8  発行年： 2010年03月03日 
JST資料番号： Y0054B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： アスペクト比 ,  *ナノ構造 ,  *エピタクシー ,  エッチング ,  処理 ,  鉄化合物 ,  マンガン化合物 ,  酸化物
準シソーラス用語： *ナノピラー ,  超音波処理

分類 (1件)： 酸化物の結晶成長  (BK13050I)

タイトルに関連する用語 (7件)： 高アスペクト比 ,  Mo ,  マスク ,  エピタキシャル ,  酸化物 ,  ナノ構造 ,  作製