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J-GLOBAL ID：201002296790175882   整理番号：10A1755068

ポリフッ化ビニリデンの溶媒キャスト法による結晶構造の制御

Crystal Structure Control of Poly(vinylidene fluoride) Using Solvent Casting

著者 (9件)： 大城浩徳 (金沢工業大学) ,  佐藤翼 (金沢工業大学) ,  山本雅史 (金沢工業大学) ,  河野昭彦 (金沢工業大学) ,  堀邊英夫 (金沢工業大学) ,  増永啓康 (高輝度光科学研究センター) ,  團野哲也 (高知女子大学) ,  松本英俊 (東京工業大学) ,  谷岡明彦 (東京工業大学)
資料名： 高分子論文集  (Japanese Journal of Polymer Science and Technology)
巻： 67  号： 11  ページ： 632-639 (J-STAGE)  発行年： 2010年 
JST資料番号： G0122A  ISSN： 0386-2186  CODEN： KBRBA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： ポリフッ化ビニリデン(PVDF)は,I 型,II 型,III 型の 3 つの結晶構造を有し,通常異なる溶媒からキャストして作製される.本報では,1 つの溶媒に対し,キャスト後の溶媒の乾燥温度を変えて溶媒の蒸発速度を制御することで,PVDF の 3 つの結晶構造を作製することを試みた.PVDF をヘキサメチルホスホアミド(HMPA)溶媒に溶解させ,キャスト後の乾燥温度を変えて溶媒の蒸発速度を制御した結果,25~40°C 乾燥では PVDF I 型,160~170°C 乾燥では PVDF II 型,80~100°C 乾燥では PVDF III 型の結晶構造が作製できた.これは,PVDF I 型は溶媒の蒸発速度が遅いときに作製され,II 型は速いとき,III 型はその中間の速度のときに作製されるためだと考えられる.そこで,乾燥温度を 25°C に固定し,真空ポンプを用いて溶媒乾燥時の圧力を変えることで溶媒の蒸発速度を制御することにした.その結果,0.005 MPa では PVDF III 型に PVDF II 型が混合し,0.01~0.05 MPa では PVDF III 型,0.08 MPa では PVDF I 型を作製することができた.(著者抄録)

シソーラス用語： *ポリフッ化ビニリデン ,  *高分子膜 ,  高分子溶液 ,  *結晶構造 ,  蒸発速度 ,  有機溶媒 ,  温度 ,  乾燥 ,  真空度 ,  FTIR分光法 ,  分子間相互作用 ,  脂肪酸 ,  カルボアミド ,  脂肪族アミン ,  脂肪族ケトン ,  乾燥温度 ,  構造制御 ,  相互作用エネルギー
準シソーラス用語： 乾燥時間

分類 (2件)： 高分子固体の構造と形態学  (CG02022M) ,  高分子の結晶構造  (BK10000K)

物質索引 (3件)： DMAC ,  HMPA ,  アセトン

引用文献 (14件)：

• 1) “高分子の基礎(高分子機能材料シリーズ 3)”, 高分子学会編, 共立出版 (1993), pp. 207-240.
• 2) G. K. Narula and P. K. C. Pillai, J. Mater. Sci., 9, 130 (1990).
• 3) H. Tadokoro, Polymer, 25, 147 (1984).
• 4) 宮入圭一, “電子物性の基礎”, 森北出版 (1993), p. 103.
• 5) R. Hasegawa, M. Kobayashi, and H. Tadokoro, Polym. J., 3, 591 (1972).

タイトルに関連する用語 (4件)： ポリフッ化ビニリデン ,  溶媒 ,  キャスト ,  結晶構造