特許
J-GLOBAL ID：201003000995097687

粒子選別装置及び方法、並びに電子部材の製造方法

発明者：
佐藤 信太郎

佐藤 信太郎 について


出願人/特許権者：
富士通株式会社

富士通株式会社 について


代理人 (1件)： 國分 孝悦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-244694
公開番号（公開出願番号）：特開2010-075796
出願日： 2008年09月24日
公開日（公表日）： 2010年04月08日
要約：
【課題】比較的簡易な構成により、選別対象である粒子に荷電を要さず、しかも質量分布(サイズ分布)の狭い確実な粒子選別を可能とする。【解決手段】第1の処理室11内に設置されており、貫通孔12aを有し、第1の処理室11の内壁より高温に設定されてなる粒子選別部2に、第1の粒子10aを有する粒子10を含むキャリアガスを吹き付け、貫通孔12aを通過した第1の粒子10aを選択的に回収する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
第1の粒子を含む第1のキャリアガスの入口を有する第1の導入部と、前記第1の粒子の出口を有する第1の放出部とが設けられた第1の処理室と、 前記第1の処理室内で前記第1の導入部と前記第1の放出部との間に配置され、前記第1の導入部側から前記第1の放出部側を貫く貫通孔を有する粒子選別部と を含み、 前記粒子選別部は、前記第1の処理室の内壁に比して高い温度に設定されてなることを特徴とする粒子選別装置。
IPC (1件)：
B07B 7/00
FI (1件)：
B07B7/00 Z
Fターム (8件)：
4D021FA14 ,  4D021FA17 ,  4D021GA02 ,  4D021GA05 ,  4D021GA06 ,  4D021GA08 ,  4D021GA16 ,  4D021HA10
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (3件)

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