特許

J-GLOBAL ID：201003003595467190

基板の処理装置

発明者： 戸部 康弘 ,  孫 亮
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (3件)： 萩原 康司 ,  金本 哲男 ,  亀谷 美明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-205060
公開番号（公開出願番号）：特開2010-040956
出願日： 2008年08月08日
公開日（公表日）： 2010年02月18日
要約：

【課題】減圧された処理容器の内部において、汚染を生じさせずに基板を搬送させる。【解決手段】基板Gを処理する処理装置13であって、基板Gを収納する処理容器30と、処理容器30の内部を減圧させる減圧機構36と、処理容器30の内部に配置された、基板Gを保持するステージ41と、ステージ41を直進運動させる直進運動機構43と、ステージ41の回転を防止する平行リンク機構44、45を備え、処理容器30の内部の雰囲気と遮断された空間部100が、ステージ41の内部に形成され、空間部100と処理容器30の外部との雰囲気を連通させる通気経路110が、平行リンク機構44、45の内部に形成されている。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

基板を処理する処理装置であって、 基板を収納する処理容器と、 前記処理容器の内部を減圧させる減圧機構と、 前記処理容器の内部に配置された、基板を保持するステージと、前記ステージを直進運動させる直進運動機構と、前記ステージの回転を防止する平行リンク機構を備え、 前記処理容器の内部の雰囲気と遮断された空間部が、前記ステージの内部に形成され、 前記空間部と前記処理容器の外部との雰囲気を連通させる通気経路が、前記平行リンク機構の内部に形成されている、処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/68 ,  G09F 9/00 ,  H05B 33/10 ,  H01L 51/50

FI (4件)：

H01L21/68 K ,  G09F9/00 338 ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 A

Fターム (18件)：

3K107AA01 ,  3K107BB01 ,  3K107CC45 ,  3K107GG02 ,  3K107GG42 ,  5F031CA05 ,  5F031HA16 ,  5F031HA37 ,  5F031HA39 ,  5F031HA53 ,  5F031HA57 ,  5F031LA16 ,  5F031MA29 ,  5F031NA05 ,  5F031NA13 ,  5G435AA11 ,  5G435BB05 ,  5G435KK10

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 磁気浮上真空搬送装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-213624   出願人：株式会社荏原製作所
• 粉粒体噴射装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-000136   出願人：ソニー株式会社

審査官引用 (3件)

• 工作機械のリンク式往復機構
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-044306   出願人：大昌精機株式会社
• 移送装置及びこれを用いた搬送装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-079138   出願人：ソニー株式会社
• 特開平4-092446