特許
J-GLOBAL ID：201003003791322974
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、新規な化合物および酸発生剤
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
棚井 澄雄
, 志賀 正武
, 鈴木 三義
, 五十嵐 光永
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-309851
公開番号（公開出願番号）：特開2010-132601
出願日： 2008年12月04日
公開日（公表日）： 2010年06月17日
要約：
【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用な化合物、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)及び露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有し、酸発生剤成分(B)は、一般式(b1)で表される化合物からなる酸発生剤(B1)を含むレジスト組成物[式中、R7”〜R9”は、それぞれ独立に、アリール基またはアルキル基を表し;R7”〜R9”のうち、いずれか2つが相互に結合して式中のイオウ原子と共に環を形成してもよく;R7”〜R9”のうち少なくとも1つは、水素原子の一部または全部が下記一般式(b1-01)で表される基で置換された置換アリール基であり;X-はアニオンであり;R20は塩基解離性部位を有する二価の基であり;R30は2価の連結基であり;R40は酸解離性基を有する基である。]。[化1]【選択図】なし
請求項（抜粋）：
酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するレジスト組成物であって、
前記酸発生剤成分(B)は、下記一般式(b1)で表される化合物からなる酸発生剤(B1)を含むことを特徴とするレジスト組成物。
IPC (9件)：
C07C 381/12
, G03F 7/004
, G03F 7/039
, H01L 21/027
, C08F 220/26
, C07C 309/06
, C07C 309/12
, C09K 3/00
, C07D 327/04
C07C381/12
, G03F7/004 503A
, G03F7/004 501
, G03F7/039 601
, H01L21/30 502R
, C08F220/26
, C07C309/06
, C07C309/12
, C09K3/00 K
, C07D327/04
2H025AA03
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE07
, 2H025BF02
, 2H025BG00
, 2H025CC20
, 2H025DA34
, 2H025FA17
, 4C023AA01
, 4H006AA01
, 4H006AA03
, 4H006AB80
, 4H006TN30
, 4H006TN60
, 4J100AL08P
, 4J100AL08Q
, 4J100AL08R
, 4J100BA02P
, 4J100BA03R
, 4J100BA15P
, 4J100BA40R
, 4J100BB18R
, 4J100BC07P
, 4J100BC08R
, 4J100BC09P
, 4J100BC09R
, 4J100BC12P
, 4J100BC53Q
, 4J100CA05
, 4J100JA38
