特許
J-GLOBAL ID：200903075453818638

感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法

発明者：
川西 安大

川西 安大 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  矢澤 清純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-379177
公開番号（公開出願番号）：特開2007-178858
出願日： 2005年12月28日
公開日（公表日）： 2007年07月12日
要約：
【課題】IC等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法であって、感度、解像度、パターン形状及びアウトガス特性に優れた感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】活性光線または放射線の照射により分解して酸を発生する化合物として、アルカリ分解性基を含有するスルフォニウム塩を含有する感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
一般式(I)又は(II)で表される化合物を含有することを特徴とする感光性組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/004 ,  C07C 381/12 ,  H01L 21/027
FI (3件)：
G03F7/004 503A ,  C07C381/12 ,  H01L21/30 502R
Fターム (21件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4H006AA03 ,  4H006AB78
引用特許：
出願人引用 (3件)
  • 米国特許第6548221号明細書
  • 欧州特許第1480078号明細書
  • 米国特許第6680157号明細書
審査官引用 (21件)
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