光断層画像化装置、光プローブ

発明者：
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：松浦憲三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-177027
公開番号（公開出願番号）：特開2010-014668
出願日： 2008年07月07日
公開日（公表日）： 2010年01月21日
要約：

【課題】光ファイバへの戻り光としてプローブ外筒の透過面における測定光の反射光について安定した光量を確保すること。【解決手段】光断層画像化装置であって、光源部にて出射された光源光から分割された参照光の光路長を調整する光路長調整手段と、光源光から分割された測定光が入射される光ファイバと、光ファイバから出射される測定光を偏向させながら集光させるレンズと、光ファイバおよびレンズが内部に配置され測定光を透過させることが可能な透過面が設けられたプローブ外筒を備える光プローブと、光路長調整手段により光路長を調整された参照光と光プローブからの戻り光が合波された合波光から干渉光を検出する干渉光検出手段と、を有し、透過面には、当該透過面における測定光の反射光の一部が散乱光となるように不規則な凹凸構造が形成されていること、を特徴とする。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

光源部にて出射された光源光から分割された参照光の光路長を調整する光路長調整手段と、前記光源光から分割された測定光が入射される光ファイバと、前記光ファイバから出射される前記測定光を偏向させながら集光させるレンズと、前記光ファイバおよび前記レンズが内部に配置され前記測定光を透過させることが可能な透過面が設けられたプローブ外筒を備える光プローブと、前記光路長調整手段により光路長を調整された前記参照光と前記光プローブからの戻り光が合波された合波光から干渉光を検出する干渉光検出手段と、を有し、前記透過面には、当該透過面における前記測定光の反射光の一部が散乱光となるように不規則な凹凸構造が形成されていること、を特徴とする光断層画像化装置。

IPC (2件)：

G01N 21/17 , A61B 1/00

FI (2件)：

G01N21/17 620 , A61B1/00 300D

Fターム (20件)：

2G059AA05 , 2G059BB12 , 2G059EE02 , 2G059EE09 , 2G059EE17 , 2G059FF02 , 2G059GG01 , 2G059JJ05 , 2G059JJ11 , 2G059JJ13 , 2G059JJ15 , 2G059JJ17 , 2G059JJ22 , 2G059JJ26 , 2G059KK01 , 2G059LL04 , 2G059NN01 , 4C061BB08 , 4C061CC04 , 4C061FF40

引用特許：

出願人引用 (4件)

光イメージング装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-115399 出願人：オリンパス光学工業株式会社
米国特許第7158234号明細書
米国特許第6564089号明細書

全件表示

審査官引用 (4件)

光走査プローブ装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-266753 出願人：オリンパス光学工業株式会社
光走査プローブ装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-056887 出願人：ユニバーシティーホスピタルオブクリーブランド, オリンパス株式会社
内視鏡
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-189346 出願人：オリンパスメディカルシステムズ株式会社

全件表示

前のページに戻る