特許
J-GLOBAL ID：201003007832860990

感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びこれを用いたパターン形成方法

発明者：
山口 修平

山口 修平 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (2件)： 高松 猛 ,  矢澤 清純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-007527
公開番号（公開出願番号）：特開2010-186176
出願日： 2010年01月15日
公開日（公表日）： 2010年08月26日
要約：
【課題】遠紫外光、EUV、電子線等、特にArFエキシマレーザー光を使用するミクロフォトファブリケ-ション本来の性能向上技術の課題を解決することであり、通常露光更には液浸露光によるパターニングにおいても、露光ラチチュードが広く、ラインエッジラフネスを抑制できる、優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することにある。【解決手段】(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(B)ラクトン構造を有する特定の繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、及び(D)酸の作用により脱離する基を有する低分子化合物を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(B)一般式(3)で表される繰り返し単位を有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、及び(D)酸の作用により脱離する基を有する低分子化合物を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。
IPC (5件)：
G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/38 ,  C08F 20/26 ,  H01L 21/027
FI (5件)：
G03F7/039 601 ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/38 501 ,  C08F20/26 ,  H01L21/30 502R
Fターム (75件)：
2H096AA25 ,  2H096BA11 ,  2H096DA04 ,  2H096EA03 ,  2H096EA05 ,  2H096EA23 ,  2H096FA01 ,  2H096GA08 ,  2H096JA02 ,  2H096JA03 ,  2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF21P ,  2H125AF36P ,  2H125AF38P ,  2H125AF39P ,  2H125AF45P ,  2H125AF70P ,  2H125AH05 ,  2H125AH11 ,  2H125AH15 ,  2H125AH17 ,  2H125AH19 ,  2H125AH22 ,  2H125AH24 ,  2H125AH25 ,  2H125AH29 ,  2H125AJ14X ,  2H125AJ38X ,  2H125AJ64X ,  2H125AJ65X ,  2H125AJ66X ,  2H125AJ67X ,  2H125AJ68X ,  2H125AJ69X ,  2H125AL11 ,  2H125AM13P ,  2H125AM22P ,  2H125AM99P ,  2H125AN38P ,  2H125AN39P ,  2H125AN42P ,  2H125AN45P ,  2H125AN54P ,  2H125AN64P ,  2H125BA01P ,  2H125BA26P ,  2H125BA32P ,  2H125BA33P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC03 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03 ,  4H006AA03 ,  4H006AB76 ,  4H006AB80 ,  4H006RA10 ,  4H006RA28 ,  4H006RA38 ,  4H006RA54 ,  4H006RB04 ,  4H006TN10 ,  4H006TN30 ,  4H006TN40 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100BA15Q ,  4J100BC08R ,  4J100BC09P ,  4J100BC53Q ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100JA37
引用特許：
審査官引用 (7件)
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