特許
J-GLOBAL ID：200903018824706788

ポジ型レジスト組成物およびパターン形成方法

発明者：
福原 敏明

福原 敏明 について

, 
漢那 慎一

漢那 慎一 について

, 
神田 博美

神田 博美 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (2件)： 高松 猛 ,  矢澤 清純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-076599
公開番号（公開出願番号）：特開2008-268932
出願日： 2008年03月24日
公開日（公表日）： 2008年11月06日
要約：
【課題】本発明により、通常露光及び液浸露光によるラインエッジラフネスが改善され、液浸露光時に於ける水追随性に優れたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法の提供。【解決手段】(A)式(I)で表される酸分解性繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物、(C)アルカリ現像液に対して不溶で、フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかを有する化合物、および(D)溶剤、を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(A)下記一般式(I)で表される酸分解性繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物、(C)アルカリ現像液に対して不溶で、フッ素原子及び珪素原子の少なくともいずれかを有する疎水性樹脂、および(D)溶剤、を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。
IPC (5件)：
G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/021 ,  C08F 20/26 ,  H01L 21/027
FI (5件)：
G03F7/039 601 ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/021 ,  C08F20/26 ,  H01L21/30 502R
Fターム (43件)：
2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BF02 ,  2H025BG00 ,  2H025CC20 ,  2H025FA01 ,  2H025FA10 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J100AL04Q ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100BA02Q ,  4J100BA03Q ,  4J100BA05Q ,  4J100BA11Q ,  4J100BA15P ,  4J100BA15Q ,  4J100BA20P ,  4J100BA20Q ,  4J100BA55Q ,  4J100BC02P ,  4J100BC02Q ,  4J100BC03P ,  4J100BC03Q ,  4J100BC04P ,  4J100BC04Q ,  4J100BC08P ,  4J100BC08Q ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC12P ,  4J100BC12Q ,  4J100BC53Q ,  4J100BC58Q ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (4件)
  • 特開昭57-153433号公報
  • 国際公開第05/003198号パンフレット
  • ポジ型レジスト組成物
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-107305   出願人：富士写真フイルム株式会社
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審査官引用 (7件)
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