水素溶解水の製造装置及びこれを用いた製造方法ならびに電子部品又は電子部品の製造器具用の洗浄装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：志賀正武 , 高橋詔男 , 勝俣智夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-179184
公開番号（公開出願番号）：特開2010-017633
出願日： 2008年07月09日
公開日（公表日）： 2010年01月28日
要約：

【課題】脱ガスを行わずに、過酸化水素と酸素とが除去された水素溶解水の製造方法を目的とする。【解決手段】本発明の水素溶解水の製造方法は、白金族金属触媒の存在下で過酸化水素から水を生成する反応及び酸素と水素から水を生成する反応を利用して、過酸化水素と酸素とを含む被処理水から過酸化水素及び酸素を除去する触媒反応工程を有する水素溶解水の製造方法において、前記被処理水を脱ガスすることなしに、前記触媒反応工程で消費する水素を予め被処理水に添加しておく水素添加工程を有することよりなる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

白金族金属触媒の存在下で過酸化水素から水を生成する反応及び酸素と水素から水を生成する反応を利用して、過酸化水素と酸素とを含む被処理水から過酸化水素及び酸素を除去する触媒反応工程を有する水素溶解水の製造方法において、前記被処理水を脱ガスすることなしに、前記触媒反応工程で消費する水素を予め被処理水に添加しておく水素添加工程を有する、水素溶解水の製造方法。

IPC (5件)：

C02F 1/68 , C02F 1/58 , B01F 1/00 , C01B 5/00 , H01L 21/304

FI (11件)：

C02F1/68 520B , C02F1/68 510A , C02F1/68 530A , C02F1/68 540Z , C02F1/68 530L , C02F1/58 T , C02F1/58 H , B01F1/00 A , C02F1/68 530K , C01B5/00 Z , H01L21/304 647Z

Fターム (34件)：

4D038AA01 , 4D038AB26 , 4D038AB27 , 4D038BA04 , 4D038BA06 , 4D038BB20 , 4G035AA01 , 4G035AB28 , 4G035AE02 , 5F157AA28 , 5F157AA42 , 5F157AA46 , 5F157AA73 , 5F157AA77 , 5F157AB89 , 5F157AC01 , 5F157AC02 , 5F157AC25 , 5F157BB02 , 5F157BB04 , 5F157BB22 , 5F157BB52 , 5F157BC41 , 5F157BD04 , 5F157BD25 , 5F157BD51 , 5F157BD54 , 5F157BD58 , 5F157BE12 , 5F157CB01 , 5F157CE37 , 5F157DB03 , 5F157DB23 , 5F157DB47

引用特許：

出願人引用 (7件)

特許第3296405号公報
脱酸素装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-097251 出願人：栗田工業株式会社
特許第3224037号公報

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審査官引用 (6件)

半導体製造に用いる洗浄水又は浸漬水の製造装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-334841 出願人：日本電気株式会社, オルガノ株式会社
水素溶解水製造装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-005879 出願人：オルガノ株式会社
水素還元水及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2004-309914 出願人：株式会社ティーイーディー

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