特許
J-GLOBAL ID：201003009431030695
レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物、酸発生剤
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
棚井 澄雄
, 志賀 正武
, 鈴木 三義
, 五十嵐 光永
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-123095
公開番号（公開出願番号）：特開2010-120924
出願日： 2009年05月21日
公開日（公表日）： 2010年06月03日
要約：
【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用な新規な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物および該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法、該レジスト組成物に用いる酸発生剤として有用な化合物、および酸発生剤を提供する。【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するレジスト組成物であって、前記酸発生剤成分(B)が、下記一般式(b1-11)で表される化合物からなる酸発生剤(B1)を含むことを特徴とするレジスト組成物。式(b-11)中、R7”〜R9”のうち少なくとも1つは、置換基として下記一般式(I)で表される基を有する置換アリール基であり、式(I)中のRfはフッ素化アルキル基を表す。 [化1]【選択図】なし
請求項（抜粋）：
酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)、および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するレジスト組成物であって、
前記酸発生剤成分(B)が、下記一般式(b1-11)で表される化合物からなる酸発生剤(B1)を含むことを特徴とするレジスト組成物。
IPC (6件)：
C07C 381/12
, C07C 309/04
, C07C 309/17
, C09K 3/00
, G03F 7/004
, G03F 7/039
C07C381/12
, C07C309/04
, C07C309/17
, C09K3/00 K
, G03F7/004 503A
, G03F7/039 601
2H125AF13P
, 2H125AF43P
, 2H125AH17
, 2H125AH19
, 2H125AJ12X
, 2H125AJ56X
, 2H125AJ65X
, 2H125AJ69X
, 2H125AN38P
, 2H125AN39P
, 2H125AN63P
, 2H125AN64P
, 2H125BA01P
, 2H125BA26P
, 2H125CA12
, 2H125CB09
, 2H125CC03
, 2H125CC15
, 4H006AA01
, 4H006AA03
, 4H006AB80
