特許
J-GLOBAL ID：200903030396291144

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法

発明者：
高橋 表

高橋 表 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  濱田 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-349022
公開番号（公開出願番号）：特開2005-115016
出願日： 2003年10月08日
公開日（公表日）： 2005年04月28日
要約：
【課題】 高感度、高解像力で、矩形なプロファイルを有し、パーティクル初期値が小さく、曲率再現性に優れたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】 (A)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び(B-1)活性光線又は放射線の照射によりフッ素原子を有する脂肪族又は芳香族スルホン酸を発生する、カチオン部にフッ素原子を有するトリアリールスルホニウム塩、(C)含窒素塩基性化合物及び(D)有機溶剤を含有するポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
(A)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、 (B-1)活性光線又は放射線の照射によりフッ素原子を有する脂肪族又は芳香族スルホン酸を発生する、カチオン部にフッ素原子を有するトリアリールスルホニウム塩、 (C)含窒素塩基性化合物及び (D)有機溶剤 を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
IPC (3件)：
G03F7/039 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027
FI (4件)：
G03F7/039 601 ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/004 503A ,  H01L21/30 502R
Fターム (17件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB43 ,  2H025CB45 ,  2H025CC03 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17
引用特許：
出願人引用 (2件)
  • 国際公開第02/092559A1号パンフレット
  • パターン形成方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-058430   出願人：松下電器産業株式会社
審査官引用 (13件)
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