特許
J-GLOBAL ID:201003011500690087
OCTによる断層画像の形成方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
長尾 達也
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-135694
公開番号(公開出願番号):特開2010-279576
出願日: 2009年06月05日
公開日(公表日): 2010年12月16日
要約:
【課題】高解像度で撮像することが必要な部分だけ他の部分よりも分解能を上げることによって、撮像時間の短縮化を図り、効率的な断層画像の取得が可能となるOCTによる断層画像の形成方法を提供する。【解決手段】被検査物の断層画像を形成するOCTによる断層画像の形成方法であって、 前記被検査物に対する撮像に際し、高解像度で撮像することが必要な部分に対して、その必要性に応じて他の部分よりも高い解像度で撮像する工程を有し、 前記高解像度で撮像することが必要な部分を撮像するときには、前記光源からの光によるビームのスポット径を前記他の部分を撮像するときよりも小さいスポット径に設定し、 深さ方向に対して、前記他の部分を撮像するときよりも多い撮像回数で撮像する構成とする。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
光源からの光を被検査物に照射し、前記被検査物からの反射または散乱した戻り光と参照光との合成による干渉光を用い、前記被検査物の断層画像を形成するOCTによる断層画像の形成方法であって、
前記被検査物に対する撮像に際し、高解像度で撮像することが必要な部分に対して、その必要性に応じて他の部分よりも高い解像度で撮像する工程を有し、
前記高解像度で撮像することが必要な部分を撮像するときには、前記光源からの光によるビームのスポット径を前記他の部分を撮像するときよりも小さいスポット径に設定し、
深さ方向に対して、前記他の部分を撮像するときよりも多い撮像回数で撮像することを特徴とするOCTによる断層画像の形成方法。
IPC (5件):
A61B 3/10
, A61B 1/00
, G01N 21/17
, A61B 10/00
, G01B 11/24
FI (5件):
A61B3/10 R
, A61B1/00 300D
, G01N21/17 620
, A61B10/00 E
, G01B11/24 D
Fターム (40件):
2F065AA52
, 2F065AA53
, 2F065BB05
, 2F065CC16
, 2F065DD06
, 2F065FF04
, 2F065FF10
, 2F065FF52
, 2F065GG07
, 2F065GG22
, 2F065HH04
, 2F065HH18
, 2F065JJ02
, 2F065LL00
, 2F065LL12
, 2F065LL15
, 2F065LL42
, 2F065LL62
, 2F065MM16
, 2F065NN00
, 2F065QQ16
, 2G059AA05
, 2G059BB12
, 2G059EE02
, 2G059EE09
, 2G059EE17
, 2G059FF02
, 2G059GG01
, 2G059GG02
, 2G059HH01
, 2G059JJ05
, 2G059JJ11
, 2G059JJ13
, 2G059JJ15
, 2G059JJ22
, 2G059KK04
, 2G059LL01
, 2G059MM01
, 4C061BB08
, 4C061MM10
引用特許:
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