光断層画像撮像装置及びその制御方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：長尾達也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-097415
公開番号（公開出願番号）：特開2010-249584
出願日： 2009年04月13日
公開日（公表日）： 2010年11月04日
要約：

【課題】複数の測定光からなる光を用いて被検査物における異なる部位に照射し、光学系の特性をこれらの部位に適合するように設定して、断層像を撮像する光断層画像撮像装置を提供する。【解決手段】複数の測定光の被検査物への照射による複数の戻り光のそれぞれと、参照光とを干渉させた合波光を用いて、断層画像を撮像するOCTシステムを備えた光断層画像撮像装置であって、複数の測定光を走査する走査手段と、走査手段により走査された複数の測定光を、被検査物の異なる照射領域に照射する照射手段と、照射手段により照射される複数の測定光の被検査物の照射位置を調整する調整手段と、複数の測定光の照射による複数の戻り光のそれぞれと、参照光とを光干渉させた合波光のそれぞれを検出する検出手段とを備え、検出手段は、複数の分光手段とセンサーから構成され、複数の分光手段は、センサーで取得する合波光の分光幅が、少なくとも1つは異なっている。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

複数の測定光の被検査物への照射による複数の戻り光のそれぞれと、参照光とを干渉させた合波光を用いて、被検査物の断層画像を撮像するOCTシステムを備えた光断層画像撮像装置であって、前記複数の測定光を走査する走査手段と、前記走査手段により走査された前記複数の測定光を、前記被検査物の異なる照射領域に照射する照射手段と、前記照射手段により照射される前記複数の測定光の被検査物の照射位置を調整する調整手段と、前記複数の測定光の照射による複数の戻り光のそれぞれと、前記参照光とを光干渉させた合波光のそれぞれを検出する検出手段とを備え、前記検出手段は、複数の分光手段とセンサーから構成され、前記複数の分光手段は、前記センサーで取得する前記合波光の分光幅が、少なくとも1つは異なる分光幅であることを特徴とする光断層画像撮像装置。

IPC (3件)：

G01N 21/17 , G01N 21/35 , A61B 3/12

FI (3件)：

G01N21/17 625 , G01N21/35 Z , A61B3/12 E

Fターム (4件)：

2G059JJ05 , 2G059JJ11 , 2G059JJ17 , 2G059KK04

引用特許：

審査官引用 (6件)

OCT装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-340620 出願人：富士写真フイルム株式会社
光断層画像化装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-072184 出願人：富士フイルム株式会社
特開平1-113024

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