特許
J-GLOBAL ID：201003011879856467

ビームホモジェナイザ

発明者：
アラン・ディ・キャスマン

アラン・ディ・キャスマン について

, 
マイケル・アール・フェルドマン

マイケル・アール・フェルドマン について


出願人/特許権者：
ディジタル・オプティックス・コーポレイション

ディジタル・オプティックス・コーポレイション について


代理人 (2件)： 山田 卓二 ,  田中 光雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-292936
公開番号（公開出願番号）：特開2010-153871
出願日： 2009年12月24日
公開日（公表日）： 2010年07月08日
要約：
【課題】ビームの不均一性を補正してビームの強度エネルギを最大限に活用して均一な光強度分布を実現する。【解決手段】この光学システムは、入力ビーム14を変換して得られた出力ビームを、一定の標的面積を有するマスクを介して、ウェーハ上に照射するホモジェナイザ10を備え、ホモジェナイザは、複数のファセット領域からなるホログラムを有し、各ファセット領域12は、不規則なパターン形状を有する複数の回折フリンジから構成され、各回折フリンジで形成されるファセット領域の全体的なパターン形状が各ファセット領域において互いに異なり、各ファセット領域のそれぞれの回折フリンジのパターン形状は、出力ビームがマスクの一定の標的面積上に連続的な強度分布で照射され、マスクにより遮られない出力ビームがウェーハに均一な強度分布で照射されるように構成されている。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
リソグラフィシステムで用いられる光学システムであって、 入力ビームを変換して得られた出力ビームを、一定の標的面積を有するマスク(60)を介して、ウェーハ(64)上に照射するホモジェナイザ(10)を備え、 ホモジェナイザ(10)は、複数のファセット領域(56)からなるホログラム(54)を有し、 各ファセット領域(56)は、不規則なパターン形状を有する複数の回折フリンジ(70)から構成され、各回折フリンジ(70)で形成されるファセット領域(56)の全体的なパターン形状が各ファセット領域(56)において互いに異なり、 各ファセット領域(56)のそれぞれの回折フリンジ(70)のパターン形状は、出力ビームがマスク(60)の一定の標的面積上に連続的な強度分布で照射され、マスク(60)により遮られない出力ビームがウェーハ(64)に均一な強度分布で照射されるように構成されていることを特徴とする光学システム。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  G02B 5/18
FI (2件)：
H01L21/30 515D ,  G02B5/18
Fターム (8件)：
2H249AA03 ,  2H249AA13 ,  2H249AA51 ,  2H249AA55 ,  2H249AA64 ,  5F046CB09 ,  5F046CB23 ,  5F046CB27
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (6件)
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引用文献：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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