特許
J-GLOBAL ID:201003014365132990

金属錯体及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 特許業務法人三枝国際特許事務所
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-132707
公開番号(公開出願番号):特開2010-180202
出願日: 2009年06月02日
公開日(公表日): 2010年08月19日
要約:
【課題】優れたガス分離性能を有する金属錯体を提供する。【解決手段】イソフタル酸誘導体、2,7-ナフタレンジカルボン酸誘導体、4,4’-ベンゾフェニンジカルボン酸誘導体など、構造式内でカルボキシル基が互いに120°の位置にあるジカルボン酸化合物と、クロム、モリブデン、タングステン、マンガン、鉄、ルテニウム、コバルト、ロジウム、ニッケル、パラジウム、銅、亜鉛及びカドミウムから選択される少なくとも1種の金属と、該金属に二座配位可能な4,4’-ビピリジルなどの有機配位子とからなる金属錯体。【選択図】なし
請求項(抜粋):
構造式内でカルボキシル基が互いに120°の位置にあるジカルボン酸化合物と、クロム、モリブデン、タングステン、マンガン、鉄、ルテニウム、コバルト、ロジウム、ニッケル、パラジウム、銅、亜鉛及びカドミウムから選択される少なくとも1種の金属と、該金属に二座配位可能な有機配位子とからなる金属錯体。
IPC (6件):
C07C 63/24 ,  C07C 63/38 ,  C07C 65/34 ,  C10L 3/10 ,  C07D 213/22 ,  B01J 20/22
FI (6件):
C07C63/24 ,  C07C63/38 ,  C07C65/34 ,  C10L3/00 B ,  C07D213/22 ,  B01J20/22 A
Fターム (46件):
4C055AA01 ,  4C055BA01 ,  4C055CA01 ,  4C055DA01 ,  4C055EA01 ,  4C055FA01 ,  4C055GA02 ,  4G066AB05B ,  4G066AB07B ,  4G066AB24B ,  4G066BA36 ,  4G066CA23 ,  4G066CA24 ,  4G066CA27 ,  4G066CA28 ,  4G066CA29 ,  4G066CA35 ,  4G066CA37 ,  4G066CA39 ,  4G066CA43 ,  4G066CA51 ,  4G066CA56 ,  4G066FA03 ,  4G066FA05 ,  4G066FA21 ,  4H006AA01 ,  4H006AB90 ,  4H006AC90 ,  4H006AD15 ,  4H006BB20 ,  4H006BJ50 ,  4H006BR60 ,  4H048AA01 ,  4H048AB90 ,  4H048AC90 ,  4H048AD15 ,  4H048BB20 ,  4H048VA66 ,  4H048VB10 ,  4H048VB80 ,  4H050AA01 ,  4H050AB90 ,  4H050AD15 ,  4H050BB20 ,  4H050WB14 ,  4H050WB23
引用特許:
審査官引用 (4件)
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引用文献:
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