特許
J-GLOBAL ID：201003017385078680

成膜方法および成膜装置

発明者：
柿本 一臣

柿本 一臣 について


出願人/特許権者：
株式会社フジクラ

株式会社フジクラ について


代理人 (3件)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  渡邊 隆
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-205229
公開番号（公開出願番号）：特開2010-121205
出願日： 2009年09月04日
公開日（公表日）： 2010年06月03日
要約：
【課題】幅方向に複数のレーンを成すように配列した基材または幅広の基材に対しても、膜厚や特性が均一な薄膜を効率良く成膜することが可能であり、また、良好な生産性で厚い膜の成膜が可能な成膜方法および成膜装置を提供する。【解決手段】レーザー光Lによってターゲット6から叩き出され若しくは蒸発した構成粒子を帯状の基材34の表面上に堆積させ、基材34の表面上に薄膜を形成するにあたり、基材34の移動方向を転向させる転向部材11を囲んで加熱ボックス20を設けるとともに、転向部材11に接した状態にある基材34の表面に対向するようにターゲット6を配し、転向部材11に基材34の裏面が接しつつ、基材34を長手方向に移動させた状態で、加熱ボックス20の中を均等加熱するヒーター25により、基材34を加熱し、ターゲット6にレーザー光Lを照射する位置を、基材34の幅方向と同じ方向に振幅させる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
レーザー光によってターゲットから叩き出され若しくは蒸発した構成粒子を帯状の基材の表面上に堆積させ、前記基材の表面上に薄膜を形成する成膜方法であって、 前記基材の移動方向を転向させる転向部材を囲んで加熱ボックスを設けるとともに、前記転向部材に接した状態にある前記基材の表面に対向するようにターゲットを配し、 前記転向部材に前記基材の裏面が接しつつ、前記基材を長手方向に移動させた状態で、前記加熱ボックスの中を均等加熱するヒーターにより、前記基材を加熱し、前記ターゲットに前記レーザー光を照射する位置を、前記基材の幅方向と同じ方向に振幅させ、前記基材を前記構成粒子の堆積領域内を通過させることにより、前記基材の表面上に前記構成粒子を堆積させて、前記基材の表面上に薄膜を形成することを特徴とする成膜方法。
IPC (4件)：
C23C 14/28 ,  C23C 14/08 ,  H01L 39/24 ,  H01B 13/00
FI (4件)：
C23C14/28 ,  C23C14/08 L ,  H01L39/24 B ,  H01B13/00 565D
Fターム (23件)：
4K029AA02 ,  4K029AA25 ,  4K029BA43 ,  4K029BC04 ,  4K029CA01 ,  4K029DA08 ,  4K029DB05 ,  4K029DB20 ,  4K029EA08 ,  4K029FA07 ,  4K029JA10 ,  4K029KA03 ,  4M113AD35 ,  4M113AD36 ,  4M113BA04 ,  4M113CA34 ,  5G321AA01 ,  5G321AA04 ,  5G321CA18 ,  5G321CA21 ,  5G321CA24 ,  5G321CA27 ,  5G321DB37
引用特許：
審査官引用 (4件)
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