特許
J-GLOBAL ID：201003018181212945

めっき物の製造方法及びそれにより製造されるめっき物

発明者：
芦澤 弘樹

芦澤 弘樹 について

, 
中山 直樹

中山 直樹 について

, 
松原 浩

松原 浩 について


出願人/特許権者：
アキレス株式会社

アキレス株式会社 について

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国立大学法人長岡技術科学大学

国立大学法人長岡技術科学大学 について


代理人 (9件)： 萼 経夫 ,  宮崎 嘉夫 ,  加藤 勉 ,  小山 京子 ,  小野塚 薫 ,  田上 明夫 ,  ▲高▼ 昌宏 ,  森 則雄 ,  山田 清治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-159466
公開番号（公開出願番号）：特開2010-001511
出願日： 2008年06月18日
公開日（公表日）： 2010年01月07日
要約：
【課題】基材との密着性に優れる金属めっき膜を有し、該膜の表面には露出部(ムラ)がなく均一であるめっき物の提供。【解決手段】めっき物の製造方法は、A)基材上に還元性高分子微粒子とバインダーを含む塗膜層を形成する工程、B)前記塗膜層上に触媒金属を吸着させる工程C)吸着された前記触媒金属を還元処理する工程D)前記還元処理がなされた基材をめっき浴に浸漬して無電解めっきを行う工程からなる。還元性高分子微粒子として、導電性高分子微粒子を脱ドープ処理して還元性とした微粒子を用いる。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
めっき物の製造方法であって、 A)基材上に還元性高分子微粒子とバインダーを含む塗膜層を形成する工程、 B)前記塗膜層上に触媒金属を吸着させる工程 C)吸着された前記触媒金属を還元処理する工程 D)前記還元処理がなされた基材をめっき浴に浸漬して無電解めっきを行う工程 からなる方法。
IPC (1件)：
C23C 18/30
FI (1件)：
C23C18/30
Fターム (16件)：
4K022AA13 ,  4K022AA32 ,  4K022AA42 ,  4K022BA01 ,  4K022BA03 ,  4K022BA07 ,  4K022BA08 ,  4K022BA14 ,  4K022CA06 ,  4K022CA09 ,  4K022CA15 ,  4K022CA16 ,  4K022CA20 ,  4K022CA21 ,  4K022CA22 ,  4K022DA01
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (4件)
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