特許
J-GLOBAL ID：201003018385922348

三次元形状計測装置及び三次元形状計測方法

発明者：
中辻 敦忠

中辻 敦忠 について


出願人/特許権者：
NECエンジニアリング株式会社

NECエンジニアリング株式会社 について


代理人 (1件)： 中井 潤
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-071748
公開番号（公開出願番号）：特開2010-175554
出願日： 2010年03月26日
公開日（公表日）： 2010年08月12日
要約：
【課題】物体の三次元形状を迅速に精度良く計測する。【解決手段】短波長の光パターン20及び長波長の光パターン30の各々を物体2に投射するプロジェクタ3と、光パターン20、30が投射された物体2を撮影するカメラ4と、カメラ4の撮影画像に基づいて、光パターン20、30の相対位相を算出し、算出した光パターン30の相対位相に基づいて、光パターン20の相対位相と絶対位相との間のオフセット値を求め、該オフセット値と、算出した光パターン20の相対位相とに基づいて、物体2までの距離Zを求める制御部5とを備え、光パターン30の波長(長波長)を光パターン20の波長(短波長)の非整数倍の長さとし、光パターン30の相対位相と光パターン20の相対位相との対応関係を光パターン30の周期毎に異ならせた三次元形状計測装置。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
計測対象物に正弦波状の光パターンを投射するとともに、前記光パターンが投射された計測対象物を撮影し、その撮影画像に基づいて前記計測対象物の三次元形状を計測する三次元形状計測装置であって、 第1波長を有する第1光パターンと、前記第1波長より長い第2波長を有する第2光パターンとの各々を前記計測対象物に投射する投射手段と、 前記第1光パターン及び前記第2光パターンが投射された計測対象物を撮影する撮影手段と、 前記撮影手段で撮影された画像に基づいて前記第1光パターン及び前記第2光パターンの相対位相を算出する位相算出手段と、 前記位相算出手段によって算出された前記第2光パターンの相対位相に基づいて前記第1光パターンの相対位相と絶対位相との間のオフセット値を求め、該オフセット値と、前記位相算出手段によって算出された前記第1光パターンの相対位相とに基づいて前記計測対象物までの距離を求める位相接続手段とを備え、 前記第2波長を前記第1波長の非整数倍の長さとし、前記第2光パターンの相対位相と前記第1光パターンの相対位相との対応関係を該第2光パターンの周期毎に異ならせることを特徴とする三次元形状計測装置。
IPC (2件)：
G01B 11/25 ,  G06T 1/00
FI (2件)：
G01B11/25 H ,  G06T1/00 315
Fターム (26件)：
2F065AA53 ,  2F065BB05 ,  2F065DD04 ,  2F065DD06 ,  2F065FF01 ,  2F065FF04 ,  2F065FF09 ,  2F065HH06 ,  2F065HH07 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL53 ,  2F065NN03 ,  2F065NN06 ,  2F065QQ24 ,  2F065QQ25 ,  2F065RR06 ,  2F065RR09 ,  5B057AA20 ,  5B057BA02 ,  5B057CA08 ,  5B057CA12 ,  5B057CA16 ,  5B057CD14 ,  5B057DA08 ,  5B057DC16
引用特許：
審査官引用 (5件)
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