特許
J-GLOBAL ID：201003018637429089

感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法

発明者：
水谷 一良

水谷 一良 について

, 
渋谷 明規

渋谷 明規 について

, 
山口 修平

山口 修平 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (21件)： 鈴江 武彦 ,  蔵田 昌俊 ,  河野 哲 ,  中村 誠 ,  福原 淑弘 ,  峰 隆司 ,  白根 俊郎 ,  村松 貞男 ,  野河 信久 ,  幸長 保次郎 ,  河野 直樹 ,  砂川 克 ,  風間 鉄也 ,  勝村 紘 ,  河井 将次 ,  佐藤 立志 ,  岡田 貴志 ,  堀内 美保子 ,  竹内 将訓 ,  市原 卓三 ,  山下 元
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-044353
公開番号（公開出願番号）：特開2010-197849
出願日： 2009年02月26日
公開日（公表日）： 2010年09月09日
要約：
【課題】 エキシマレーザー光によるパターン形成において、通常露光(ドライ露光)のみならず液浸露光においても、露光ラティチュード(EL:Exposure Latitude)、パターンプロファイルが良好なパターンを得ることができる感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。【解決手段】 (A)酸の作用により保護基が脱離してアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有してなり、樹脂(A)の保護基が極性基を有し、かつ、化合物(B)から発生する酸が下記一般式(I)で表されることを特徴とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。(式(I)中の各符号は明細書に記載の意味を表す。) 【化1】【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
(A)酸の作用により保護基が脱離してアルカリ現像液への溶解性が増大する樹脂、 (B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物 を含有してなり、 樹脂(A)の保護基が極性基を有し、かつ、化合物(B)から発生する酸が下記一般式(I)で表されることを特徴とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  H01L 21/027
FI (3件)：
G03F7/039 601 ,  G03F7/004 503A ,  H01L21/30 502R
Fターム (9件)：
2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BF02 ,  2H025BG00 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17
引用特許：
審査官引用 (5件)
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