特許
J-GLOBAL ID：201003019638385537

ナノインプリント転写用基板およびナノインプリント転写方法

発明者：
有塚 祐樹

有塚 祐樹 について


出願人/特許権者：
大日本印刷株式会社

大日本印刷株式会社 について


代理人 (2件)： 米田 潤三 ,  皿田 秀夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-107409
公開番号（公開出願番号）：特開2010-258259
出願日： 2009年04月27日
公開日（公表日）： 2010年11月11日
要約：
【課題】ナノインプリント転写におけるスループットに優れ、かつ、被加工物の意図しない部位への露光を確実に抑制できるナノインプリント転写用基板と、この基板を用いたナノインプリント転写方法を提供する。【解決手段】ナノインプリント転写用基板(1)を、基板本体(2)と、この基板本体(2)の表面(2a)の所定の部位に設けられた光反射膜(3)とを備えたものとし、光反射膜(3)は、使用するモールドのパターン領域と同じか、それよりも大きい領域の反射面(4)を有するものとした。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
被加工物を配設しモールドを用いたナノインプリント転写に供するためのナノインプリント転写用基板において、 基板本体と、該基板本体の表面に設けられた光反射膜と、を備え、該光反射膜は、使用するモールドのパターン領域と同じか、それよりも大きい領域の反射面を有することを特徴とするナノインプリント転写用基板。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  B29C 59/02
FI (2件)：
H01L21/30 502D ,  B29C59/02 Z
Fターム (8件)：
4F209AA44 ,  4F209AF16 ,  4F209AG03 ,  4F209AJ09 ,  4F209PA08 ,  4F209PB01 ,  4F209PQ09 ,  5F046AA28
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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