特許
J-GLOBAL ID:201003019912542490
研磨装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
綿貫 隆夫
, 堀米 和春
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-090887
公開番号(公開出願番号):特開2010-240767
出願日: 2009年04月03日
公開日(公表日): 2010年10月28日
要約:
【課題】弾性材への応力が解放され、弾性材の剥がれを防止でき、バッキング材への張力のばらつきや変動をなくし、ワークを均一に精度良く研磨することができる研磨装置を提供する。【解決手段】図3において、弾性薄膜30が、シート状の弾性材42と、該弾性材42の下面側に貼設され、下面側にワーク24が保持されるシート状のバッキング材44との2層膜から成ると共に、弾性材42が中央部がくりぬかれたリング状に形成されていることを特徴とする。【選択図】図3
請求項(抜粋):
ワークを保持する研磨ヘッドと、表面に研磨面が形成された定盤と、前記研磨ヘッドと定盤とを相対的に運動させる運動機構とを備える研磨装置であって、
前記研磨ヘッドが、
保持部材と、
該保持部材を押圧する押圧手段と、
弾性のある薄膜からなり、前記保持部材の下面側に外周部で固定され、下面でワークに当接して該ワークを前記定盤の研磨面へ押圧可能に設けられた弾性薄膜と、
前記保持部材の下面および前記弾性薄膜の上面との間に形成され、第1流体供給手段によって所定圧力の流体が供給される第1圧力室とを備え、
前記弾性薄膜が、シート状の弾性材と、該弾性材の下面側に貼設され、下面側にワークが保持されるシート状のバッキング材との2層膜から成ると共に、前記弾性材が中央部がくりぬかれたリング状に形成されていることを特徴とする研磨装置。
IPC (2件):
FI (2件):
B24B37/04 L
, H01L21/304 622G
Fターム (6件):
3C058AA07
, 3C058AA09
, 3C058AB04
, 3C058CB02
, 3C058DA12
, 3C058DA17
引用特許:
審査官引用 (4件)
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ウェーハ研磨装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-392636
出願人:株式会社東京精密
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ポリッシング装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2002-218886
出願人:株式会社荏原製作所
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研磨装置の研磨ヘッドの構造
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-024082
出願人:株式会社東京精密
-
研磨ヘッド及び研磨装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2006-293206
出願人:信越半導体株式会社, 不二越機械工業株式会社
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