特許
J-GLOBAL ID：201003026237702692

テンプレート検査方法および欠陥検査装置

発明者：
米田 郁男

米田 郁男 について

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中杉 哲郎

中杉 哲郎 について

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伊藤 正光

伊藤 正光 について

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稲浪 良市

稲浪 良市 について


出願人/特許権者：
株式会社東芝

株式会社東芝 について


代理人 (1件)： 酒井 宏明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-245559
公開番号（公開出願番号）：特開2010-078400
出願日： 2008年09月25日
公開日（公表日）： 2010年04月08日
要約：
【課題】テンプレートの高精度な欠陥検査を容易に行うことができるテンプレート検査方法を得ること。【解決手段】ナノインプリントのパターン形成に用いるテンプレートのテンプレート検査方法であって、平坦なウェハW上に塗布した色付きレジストR2にテンプレートTのパターン形成面を近接させるとともに、色付きレジストR2をテンプレートTのパターン内に充填させる流体充填ステップと、テンプレートTとウェハWとの間に色付きレジストR2を挟んだ状態でテンプレートTを光学観察することによって、テンプレートTの欠陥検査を行う欠陥検査ステップと、を含み、色付きレジストR2とテンプレートTとの光学定数の差を、空気とテンプレートTとの光学定数の差よりも大きくしておく。【選択図】 図4
請求項（抜粋）：
ナノインプリントのパターン形成に用いるテンプレートのテンプレート検査方法であって、 平坦な基板上に塗布した流体に前記テンプレートのパターン形成面を近接させるとともに、前記流体を前記テンプレートのパターン内に充填させる流体充填ステップと、 前記テンプレートと前記基板との間に前記流体を挟んだ状態で前記テンプレートを光学観察することによって、前記テンプレートの欠陥検査を行う欠陥検査ステップと、 を含み、 前記流体と前記テンプレートとの光学定数の差が、空気と前記テンプレートとの光学定数の差よりも大きいことを特徴とするテンプレート検査方法。
IPC (1件)：
G01N 21/956
FI (1件)：
G01N21/956 A
Fターム (9件)：
2G051AA56 ,  2G051AB01 ,  2G051AB02 ,  2G051BA05 ,  2G051CA04 ,  2G051CB01 ,  2G051CB02 ,  2G051DA17 ,  2G051EA12
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (4件)
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