特許

J-GLOBAL ID：201003028466211670

エキシマランプ装置

発明者： 遠藤 真一
出願人/特許権者： ウシオ電機株式会社
代理人 (1件)： 長谷川 吉雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-300559
公開番号（公開出願番号）：特開2010-125368
出願日： 2008年11月26日
公開日（公表日）： 2010年06月10日
要約：

【課題】真空紫外光の発光効率を向上させ、処理能力の高いエキシマランプ装置を提供すること。【解決手段】エキシマランプ20と、ガス噴出口12aを有するガス供給管12Aと、搬送機構38とを備え、被処理体Wに対してエキシマ光を照射するエキシマランプ装置10において、前記ガス供給管12Aが互いに離間して複数設けられ、隣り合うガス供給管同士は、一方のガス供給管12Aに設けられたガス噴出口12aと、他方のガス供給管12Bに設けられたガス噴出口12bとが一対の関係となるガス噴出口を少なくとも一対備え、該一対のガス噴出口は、一方のガス噴出口12aの噴出方向と他方のガス噴出口12bの噴出方向とが該隣り合うガス供給管に挟まれた空間A内で対向、または交差するように形成され、前記エキシマランプ20は、該隣り合うガス供給管に挟まれた空間Aよりも鉛直下方に配置されていることを特徴とするエキシマランプ装置。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

鉛直下方に開口したランプハウスと、該ランプハウス内に収容された、エキシマランプと、ガス噴出口を有するガス供給管と、搬送機構とを備え、搬送される被処理体に対してエキシマ光を照射するエキシマランプ装置において、 前記ランプハウス内には、前記ガス供給管が互いに離間して複数設けられ、 隣り合うガス供給管同士は、一方のガス供給管に設けられたガス噴出口と、他方のガス供給管に設けられたガス噴出口とが一対の関係となるガス噴出口を少なくとも一対備え、 該一対のガス噴出口は、一方のガス噴出口の噴出方向と他方のガス噴出口の噴出方向とが該隣り合うガス供給管に挟まれた空間内で対向、または交差するように形成され、 前記エキシマランプは、該隣り合うガス供給管に挟まれた空間よりも鉛直下方に配置されていることを特徴とするエキシマランプ装置。

IPC (4件)：

B01J 19/12 ,  H01J 65/00 ,  H01J 61/35 ,  H01L 21/304

FI (4件)：

B01J19/12 C ,  H01J65/00 A ,  H01J61/35 K ,  H01L21/304 645D

Fターム (23件)：

4G075AA30 ,  4G075BA05 ,  4G075BA10 ,  4G075CA38 ,  4G075CA63 ,  4G075DA02 ,  4G075EB01 ,  4G075EB32 ,  4G075EB33 ,  4G075EC21 ,  4G075EC30 ,  4G075FB01 ,  5F157AA42 ,  5F157AB13 ,  5F157AB33 ,  5F157AB94 ,  5F157BG43 ,  5F157CF32 ,  5F157CF40 ,  5F157CF62 ,  5F157CF86 ,  5F157DB02 ,  5F157DC88

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 紫外光洗浄装置および紫外光洗浄装置用紫外線ランプ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-435401   出願人：日本電池株式会社

審査官引用 (4件)

• エキシマランプ装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-224516   出願人：ウシオ電機株式会社
• エキシマ光照射装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-246405   出願人：ウシオ電機株式会社
• 放電ランプ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-168475   出願人：ウシオ電機株式会社
• エキシマランプ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-242314   出願人：ウシオ電機株式会社