特許
J-GLOBAL ID：200903073372826536

紫外光洗浄装置および紫外光洗浄装置用紫外線ランプ

発明者：
細谷 浩二

細谷 浩二 について

, 
坂元 弘実

坂元 弘実 について


出願人/特許権者：
日本電池株式会社

日本電池株式会社 について


代理人 (2件)： 後呂 和男 ,  ▲高▼木 芳之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-435401
公開番号（公開出願番号）：特開2005-197291
出願日： 2003年12月26日
公開日（公表日）： 2005年07月21日
要約：
【課題】 被処理物の処理スピードを高め、しかもランプハウスへの白粉の付着によって処理ムラ等が発生することを防止できる紫外光洗浄装置を提供する。【解決手段】 ランプハウス30には、紫外線ランプ32群全体を四周から囲んで下面側を開放させた開放ハウジング33が設けられている。開放ハウジング33の天井部には、例えばステンレス板に1〜3mmの孔を多数形成した多孔のガス拡散板35を配置してあり、ここから清浄な窒素ガス(不活性ガス)を供給して、紫外線ランプ32の周囲からワークWの紫外線照射空間Xにかけて全体が窒素で満たされ、酸素がほとんど存在しない不活性ガス雰囲気に維持される。【選択図】 図4
請求項（抜粋）：
搬送される被処理物に紫外線ランプを備えたランプハウスからの紫外光を照射することで前記被処理物表面の洗浄を行う紫外光洗浄装置であって、前記ランプハウス内の前記紫外線ランプの周囲から搬送された前記被処理物が前記紫外光の照射を受ける領域にかけての紫外光照射空間を、不活性ガス雰囲気にするためのガス供給手段を設け、前記被処理物は酸素含有雰囲気中を通った後に前記紫外光照射空間に搬送されることを特徴とする紫外光洗浄装置。
IPC (3件)：
H01L21/304 ,  B08B5/02 ,  B08B7/00
FI (6件)：
H01L21/304 645D ,  H01L21/304 645A ,  H01L21/304 648A ,  H01L21/304 648L ,  B08B5/02 A ,  B08B7/00
Fターム (4件)：
3B116AA02 ,  3B116AA03 ,  3B116AB14 ,  3B116BC01
引用特許：
出願人引用 (2件)
  • 光照射装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-279747   出願人：ウシオ電機株式会社
  • 紫外線照射装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-112897   出願人：ウシオ電機株式会社
審査官引用 (3件)

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