特許
J-GLOBAL ID：201003028631685305

ソースモジュール、放射ソースおよびリソグラフィ装置

発明者：
ラベッツスキ,ドズミトリ

ラベッツスキ,ドズミトリ について

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バニエ,バディム,エヴィジェンエビッチ

バニエ,バディム,エヴィジェンエビッチ について

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ループストラ,エリック,ルーロフ

ループストラ,エリック,ルーロフ について

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モールス,ヨハネス,フベルトゥス,ヨセフィナ

モールス,ヨハネス,フベルトゥス,ヨセフィナ について

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スウィンケルズ,ゲラルドス,ヒューベルタス,ペトラス,マリア

スウィンケルズ,ゲラルドス,ヒューベルタス,ペトラス,マリア について


出願人/特許権者：
エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.

エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. について


代理人 (2件)： 稲葉 良幸 ,  大貫 敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-216391
公開番号（公開出願番号）：特開2010-093249
出願日： 2009年09月18日
公開日（公表日）： 2010年04月22日
要約：
【課題】燃料デブリを放射コレクタに到達する前に除去する。【解決手段】放射ソースは、極端紫外線を生成するように構成されている。放射ソースは、チャンバと、チャンバ内のプラズマ形成部位に燃料を供給するように構成された燃料供給と、放射ビームが燃料と衝突した場合に極端紫外線を放つプラズマが生成されるようにプラズマ形成部位に放射ビームを放つように構成されたレーザとを含む。燃料微粒子インターセプターは、チャンバ内に配置され、燃料微粒子が燃料微粒子インターセプターの表面に衝突した場合に燃料微粒子が表面に付着するように燃料に対する親和性を有する材料を含む。燃料微粒子インターセプターは、重力の影響によってあらゆる燃料微粒子が反射エレメントへと落ちることを防ぐように反射エレメントに対して構成されている。【選択図】図5
請求項（抜粋）：
リソグラフィ装置のためのソースモジュールであって、該ソースモジュールは、 チャンバ壁によって画定されたチャンバと、 前記チャンバ内のプラズマ形成部位に燃料を供給する燃料供給を含む極端紫外線ジェネレータと、 前記プラズマ形成部位における放射放出ポイントから発散される極端紫外線を反射させる前記チャンバ内の反射エレメントと、 1つ又は複数の前記チャンバ壁に隣接したチャンバ内に配置され、前記燃料に対する親和性を有する材料を含む燃料微粒子インターセプターと を含む、ソースモジュール。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20
FI (4件)：
H01L21/30 531S ,  H01L21/30 503G ,  H01L21/30 531A ,  G03F7/20 521
Fターム (4件)：
5F046GA03 ,  5F046GB01 ,  5F046GB09 ,  5F046GC03
引用特許：
審査官引用 (4件)
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