特許
J-GLOBAL ID：201003032926714096

ウエハー上で実施される測定中のプロセスに関するダイナミック・サンプリング・スキームを生成または実施するための方法ならびにシステム

発明者：
イジクソン・パベル

イジクソン・パベル について

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ロビンソン・ジョン

ロビンソン・ジョン について

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アデル・マイク

アデル・マイク について

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ウィドマン・アマー

ウィドマン・アマー について

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ドンサブ・チョイ

ドンサブ・チョイ について

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マーシェリ・アナト

マーシェリ・アナト について


出願人/特許権者：
ケーエルエー-テンカー・コーポレーション

ケーエルエー-テンカー・コーポレーション について


代理人 (1件)： 特許業務法人明成国際特許事務所
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-506456
公開番号（公開出願番号）：特表2010-537394
出願日： 2008年04月23日
公開日（公表日）： 2010年12月02日
要約：
【解決手段】本発明は、ウエハー上で実施される測定中のプロセスに関するダイナミック・サンプリング・スキームを生成または実施するための様々な方法ならびにシステムに関する。ウエハー上で実施される測定中のプロセスに関するダイナミック・サンプリング・スキームを生成するための方法は、少なくとも一つのロット内の全てのウエハー上の全ての測定箇所で測定を実施することを含む。また本方法は、測定結果に基づきプロセスに関するダイナミック・サンプリング・スキームに関する最適なサンプリング・スキーム、強化されたサンプリング・スキーム、削減されたサンプリング・スキーム、そして閾値を決定することを含む。閾値は、測定に関して最適なサンプリング・スキーム、強化されたサンプリング・スキーム、そして削減されたサンプリング・スキームがプロセスに関して使用されるべき測定の値に対応する。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
実行中にウエハー上で測定が実施されるプロセスのためのダイナミック・サンプリング・スキームを生成するための方法であって、 少なくとも一つのロット内における全てのウエハー上の全ての測定箇所で測定を実施することと、 前記測定結果に基づき前記プロセスのためのダイナミック・サンプリング・スキームに関する最適なサンプリング・スキーム、強化されたサンプリング・スキーム、削減されたサンプリング・スキーム、および閾値を決定すること、前記閾値は、前記プロセスのために用いられるべき、前記最適なサンプリング・スキーム、前記強化されたサンプリング・スキーム、および前記削減されたサンプリング・スキームにおける測定の値に対応することと、 を備える方法。
IPC (4件)：
H01L 21/027 ,  H01L 21/02 ,  H01L 21/66 ,  G03F 7/20
FI (5件)：
H01L21/30 502V ,  H01L21/02 Z ,  H01L21/66 Z ,  H01L21/30 514E ,  G03F7/20 521
Fターム (14件)：
4M106AA01 ,  4M106BA06 ,  4M106CA39 ,  4M106CA47 ,  4M106CA50 ,  4M106DH25 ,  4M106DH34 ,  4M106DJ14 ,  4M106DJ20 ,  4M106DJ38 ,  5F046AA20 ,  5F046AA28 ,  5F046DA30 ,  5F046FC04
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (3件)

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