管理システム、管理装置及び管理方法、ならびにデバイスの製造方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：西山恵三 , 内尾裕一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-125440
公開番号（公開出願番号）：特開2004-031929
出願日： 2003年04月30日
公開日（公表日）： 2004年01月29日
要約：

【課題】産業用機器の量産稼働中において、量産稼働のスループットの低減を防止しつつ、量産稼働中におけるパラメータ値の最適化を達成する。【解決手段】設定パラメータ値及び他のパラメータ値を用いて計測を実行し、その計測結果を取得する取得処理を実行可能な露光装置と、この露光装置の設定パラメータ値による処理結果を検査する検査装置とに接続され、取得処理で取得された処理結果と検査装置による検査結果値に基づいて設定パラメータ値を最適化する最適化処理を実行するコンピュータ装置(PC)を提供する。このPCは、検査装置より検査結果値を取得して蓄積し、蓄積された検査結果に基づいて処理結果の変動状態を評価する。そして、この評価結果に基づいて、半導体露光装置における取得処理の実施、未実施及び実施すべき頻度を決定する。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

産業用機器を管理する管理システムで、該産業用機器における所定パラメータの値を変更するための検査動作の頻度を変更する機能を有することを特徴とする管理システム。

IPC (1件)：

H01L21/027

FI (2件)：

H01L21/30 502G , H01L21/30 502V

Fターム (4件)：

5F046AA28 , 5F046DD06 , 5F046FC03 , 5F046FC04

引用特許：

出願人引用 (8件)

半導体組立装置及び半導体装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-094526 出願人：三菱電機株式会社, 三菱電機エンジニアリング株式会社
ウエハのリソグラフィー装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-102748 出願人：株式会社リコー
投影露光装置及び方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-251156 出願人：株式会社ニコン

全件表示

審査官引用 (9件)

半導体組立装置及び半導体装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-094526 出願人：三菱電機株式会社, 三菱電機エンジニアリング株式会社
ウエハのリソグラフィー装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-102748 出願人：株式会社リコー
投影露光装置及び方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-251156 出願人：株式会社ニコン

全件表示

前のページに戻る