特許
J-GLOBAL ID：201003033031166995

プラズマ光源とプラズマ光発生方法

発明者：
堀岡 一彦

堀岡 一彦 について

, 
桑原 一

桑原 一 について


出願人/特許権者：
株式会社IHI

株式会社IHI について

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国立大学法人東京工業大学

国立大学法人東京工業大学 について


代理人 (3件)： 堀田 実 ,  仲宗根 康晴 ,  野村 俊博
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-322526
公開番号（公開出願番号）：特開2010-147231
出願日： 2008年12月18日
公開日（公表日）： 2010年07月01日
要約：
【課題】EUV放射のためのプラズマ光を長時間(μsecオーダーで)安定して発生させることができ、構成機器の熱負荷によるダメージが小さく、発生したプラズマ光の有効な放射立体角が大きくでき、プラズマ媒体を連続して供給することができるプラズマ光源とプラズマ光発生方法を提供する。【解決手段】対向配置された1対の同軸状電極10と、同軸状電極内にプラズマ媒体を供給しかつプラズマ発生に適した温度及び圧力に保持する放電環境保持装置20と、各同軸状電極に極性を反転させた放電電圧を印加する電圧印加装置30とを備え、1対の同軸状電極間に管状放電4を形成してプラズマ3を軸方向に封じ込める。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
対向配置された1対の同軸状電極と、該同軸状電極内にプラズマ媒体を供給しかつプラズマ発生に適した温度及び圧力に保持する放電環境保持装置と、各同軸状電極に極性を反転させた放電電圧を印加する電圧印加装置と、を備え、 1対の同軸状電極間に管状放電を形成してプラズマを軸方向に封じ込める、ことを特徴とするプラズマ光源。
IPC (1件)：
H01L 21/027
FI (1件)：
H01L21/30 531S
Fターム (1件)：
5F046GC03
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (4件)
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引用文献：
審査官引用 (4件)
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