特許
J-GLOBAL ID：201003033047326186

熱処理装置

発明者：
向井 正行

向井 正行 について


出願人/特許権者：
光洋サーモシステム株式会社

光洋サーモシステム株式会社 について


代理人 (1件)： 特許業務法人 楓国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-025225
公開番号（公開出願番号）：特開2010-181091
出願日： 2009年02月05日
公開日（公表日）： 2010年08月19日
要約：
【課題】炉内の清掃作業等の煩雑な後処理の追加やランニングコストの増加を招くことなく、開口部の開放時に低温の雰囲気の流入によるシャッタの内側面への昇華物の付着を抑制でき、処理基板の汚損を未然に防止できるようにする。【解決手段】複数のシャッタ部材2のそれぞれの背面に、ヒータ4を装着した。ヒータ4は、ヒータ素線41が埋設又は取り付けられた絶縁板42の両面をマイカ等の耐熱性を有する絶縁材料43,44で被覆して構成されている。ヒータ4は、シャッタ部材2の背面に、例えばネジ止めされる。ヒータ4は、例えば150°C程度の温度以上に発熱する容量があればよい。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
処理基板が搬入出される開口部を有する炉と、 前記開口部を開閉するシャッタと、 前記シャッタに設けられ、少なくとも前記開口部の開放時に前記シャッタを加熱するヒータと、 を備えた熱処理装置。
IPC (3件)：
F27D 7/06 ,  F27B 17/00 ,  G02B 5/20
FI (4件)：
F27D7/06 B ,  F27D7/06 C ,  F27B17/00 B ,  G02B5/20 101
Fターム (10件)：
2H048BA11 ,  2H048BB02 ,  2H048BB42 ,  4K063AA05 ,  4K063BA12 ,  4K063CA05 ,  4K063DA23 ,  4K063DA33 ,  4K063FA02 ,  4K063FA09
引用特許：
審査官引用 (6件)
  • 着色レジスト焼成用オーブン
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-070763   出願人：凸版印刷株式会社
  • 熱処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-050281   出願人：エスペック株式会社
  • 熱処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-168667   出願人：エスペック株式会社
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