特許
J-GLOBAL ID:201003036328550009
膜堆積のための方法および装置
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
柳田 征史
, 佐久間 剛
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-500959
公開番号(公開出願番号):特表2010-522827
出願日: 2008年03月25日
公開日(公表日): 2010年07月08日
要約:
平均直径が3mm以下の複数のスルーチャネルを有するハニカム構造のような基体に、均一な膜コーティングを適用する方法および装置。本方法には、成膜材料を含む液体前駆体を基体に提供する工程と、基体に圧力差を与える工程とが含まれる。圧力差によって、液体前駆体は、スルーチャネルを均一に移動し、成膜材料がスルーチャネルの壁に堆積して、スルーチャネルの壁に成膜がなされる。本装置は、基体を保持し、複数のスルーチャネルに圧力差を維持することのできるチャンバを含む。
請求項(抜粋):
基体に配置された複数のスルーチャネルに成膜する方法であって、
a.第1の端部と、第2の端部と、前記第1の端部から第2の端部まで前記基体を通して延在する複数のスルーチャネルとを有する前記基体を、入口セクションと、中間セクションと、出口セクションとを有するチャンバに提供する工程であって、前記基体は前記中間セクションに配置されて、前記第1の端部が前記入口セクションに近接して、流体連通し、前記第2の端部が前記出口セクションに近接して、流体連通するようにする工程と、
b.成膜材料を含む液体前駆体を前記入口セクションに提供する工程と、
c.前記入口セクションと前記出口セクションとの間に、前記液体前駆体が前記複数のスルーチャネルを均一に流れるよう圧力差を提供する工程と、
d.前記膜を前記複数のチャネルの表面に形成する工程と、
を含むことを特徴とする方法。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (14件):
4K022AA04
, 4K022AA37
, 4K022BA01
, 4K022BA08
, 4K022BA18
, 4K022BA32
, 4K022DA01
, 4K022DB04
, 4K022DB05
, 4K022DB07
, 4K022DB15
, 4K022DB17
, 4K022DB18
, 4K022DB30
引用特許:
出願人引用 (13件)
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審査官引用 (12件)
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引用文献:
出願人引用 (1件)
-
“NPシリーズ 硬い表面-作り方と評価法-”, 19980930, 初版, p.133,p.140-144
審査官引用 (1件)
-
“NPシリーズ 硬い表面-作り方と評価法-”, 19980930, 初版, p.133,p.140-144
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