特許
J-GLOBAL ID:201003038452164640
感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (21件):
鈴江 武彦
, 蔵田 昌俊
, 河野 哲
, 中村 誠
, 福原 淑弘
, 峰 隆司
, 白根 俊郎
, 村松 貞男
, 野河 信久
, 幸長 保次郎
, 河野 直樹
, 砂川 克
, 風間 鉄也
, 勝村 紘
, 河井 将次
, 佐藤 立志
, 岡田 貴志
, 堀内 美保子
, 竹内 将訓
, 市原 卓三
, 山下 元
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-039905
公開番号(公開出願番号):特開2010-100604
出願日: 2009年02月23日
公開日(公表日): 2010年05月06日
要約:
【課題】感度、解像性、ラフネス特性、パターン形状及びアウトガス特性に優れた感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。【解決手段】一般式(I)で表される化合物を含有する感活性光線性樹脂組成物。式中、Arは、芳香族環を表し、-(A-B)基以外に更に置換基を有してもよい。nは、1以上の整数を表す。Aは、単結合、アルキレン基、-O-、-S-、-C(=O)-、-S(=O)-、-S(=O)2-、及び-OS(=O)2-から選択されるいずれか、あるいは2以上の組み合わせ(但し、-C(=O)O-を除く)を表す。Bは、3級若しくは4級炭素原子を含む、炭素原子数が4以上の炭化水素基を有する基を表す。nが2以上のとき、複数の-(A-B)基は同一でも異なっていてもよい。M+は、有機オニウムイオンを表す。【選択図】なし
請求項(抜粋):
一般式(I)で表される化合物を含有する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。
IPC (8件):
C07C 381/12
, G03F 7/004
, G03F 7/039
, G03F 7/038
, H01L 21/027
, C09K 3/00
, C07C 309/30
, C07C 309/41
FI (8件):
C07C381/12
, G03F7/004 503A
, G03F7/039 601
, G03F7/038 601
, H01L21/30 502R
, C09K3/00 K
, C07C309/30
, C07C309/41
Fターム (22件):
2H025AA01
, 2H025AA02
, 2H025AA03
, 2H025AB16
, 2H025AC01
, 2H025AC04
, 2H025AC05
, 2H025AC06
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE07
, 2H025BF02
, 2H025BG00
, 2H025CB17
, 2H025CC04
, 2H025CC20
, 2H025FA17
, 4H006AA01
, 4H006AA03
, 4H006AB48
, 4H006AB80
, 4H006AC60
引用特許:
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